| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 绝缘薄膜的发展现状 | 第11-13页 |
| 1.2.1 Al_2O_3绝缘薄膜 | 第11页 |
| 1.2.2 SiO_2绝缘薄膜 | 第11-12页 |
| 1.2.3 SiN_x薄膜 | 第12页 |
| 1.2.4 AlN_x薄膜 | 第12-13页 |
| 1.3 SiO_2绝缘薄膜的优点 | 第13-15页 |
| 1.4 SiO_2薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.4.1 蒸发法 | 第15-16页 |
| 1.4.2 溅射法 | 第16-17页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第17页 |
| 1.4.4 溶胶—凝胶法 | 第17-18页 |
| 1.5 本文主要研究内容及组织结构 | 第18-19页 |
| 第二章 磁控溅射镀膜理论与表征方法 | 第19-31页 |
| 2.1 磁控溅射镀膜沉积技术简介 | 第19-20页 |
| 2.2 JZFZJ-500S型高真空多功能复合镀膜机设备介绍 | 第20-22页 |
| 2.2.1 设备的工作原理及特征 | 第20-21页 |
| 2.2.2 设备的基本结构形式 | 第21-22页 |
| 2.3 SiO_2薄膜性能表征方法 | 第22-28页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第23页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第23-24页 |
| 2.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第24-26页 |
| 2.3.4 台阶仪 | 第26-27页 |
| 2.3.5 高阻计 | 第27-28页 |
| 2.4 薄膜的制备过程 | 第28-30页 |
| 2.4.1 SiO_2薄膜的制备流程 | 第28-29页 |
| 2.4.2 Al电极薄膜的制备流程 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 SiO_2薄膜绝缘性能及其缺陷形成机理的分析 | 第31-42页 |
| 3.1 基底表面不同粗糙度对SiO_2薄膜的绝缘性研究 | 第31-35页 |
| 3.1.1 Si片的表面处理 | 第31-33页 |
| 3.1.2 引脚的制备 | 第33-34页 |
| 3.1.3 实验 | 第34-35页 |
| 3.2 对沉积不同时间的SiO_2薄膜绝缘性能的研究 | 第35-37页 |
| 3.2.1 实验 | 第35-36页 |
| 3.2.2 对沉积不同时间SiO_2薄膜绝缘性能分析 | 第36-37页 |
| 3.3 对SiO_2薄膜绝缘失效的分析 | 第37-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 磁控溅射制备高绝缘SiO_2薄膜的实验研究 | 第42-62页 |
| 4.1 多次重复间歇式沉积对SiO_2薄膜绝缘性的影响 | 第42-49页 |
| 4.1.1 通过LabView自动控制直流脉冲电源的开关 | 第42-44页 |
| 4.1.2 实验 | 第44页 |
| 4.1.3 SiO_2薄膜绝缘性的表征 | 第44-45页 |
| 4.1.4 引线连接工艺 | 第45-46页 |
| 4.1.5 多次重复间歇式沉积对SiO_2薄膜绝缘性能研究 | 第46-49页 |
| 4.2 在相同时间内进行不同周期SiO_2薄膜的制备 | 第49-56页 |
| 4.2.1 利用步进电机的往复运动实现不同的周期 | 第49-51页 |
| 4.2.2 实验 | 第51-52页 |
| 4.2.3 不同周期对SiO_2薄膜绝缘性能研究 | 第52-53页 |
| 4.2.4 对SiO_2薄膜生长机理的研究 | 第53-56页 |
| 4.3 通过不同周期制备不同时间的SiO_2薄膜 | 第56-58页 |
| 4.3.1 实验 | 第56-57页 |
| 4.3.2 不同周期下沉积不同时间的SiO_2薄膜绝缘性能研究 | 第57-58页 |
| 4.4 通过不同周期进行多次重复间歇式制备SiO_2薄膜 | 第58-60页 |
| 4.4.1 实验 | 第58-59页 |
| 4.4.2 不同周期下进行多次重复间歇式沉积的Si02薄膜绝缘性能研究 | 第59-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 SiO_2薄膜绝缘层在薄膜传感器中的应用 | 第62-73页 |
| 5.1 SiO_2薄膜绝缘层在NiCr/NiSi薄膜热电偶中的应用 | 第62-68页 |
| 5.1.1 NiCr/NiSi薄膜热电偶的制备 | 第62-63页 |
| 5.1.2 NiCr/NiSi薄膜热电偶的标定 | 第63-65页 |
| 5.1.3 NiCr/NiSi薄膜热电偶测温刀片的铣削实验及结果分析 | 第65-68页 |
| 5.2 SiO_2薄膜绝缘层在ITO薄膜应变计中的应用 | 第68-72页 |
| 5.2.1 ITO薄膜应变计的制备 | 第68-70页 |
| 5.2.2 ITO薄膜应变计的性能测试 | 第70-72页 |
| 5.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 结论与展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78页 |
| 攻读硕士学位期间申请发明专利情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
