摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
注释表 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-20页 |
1.1 研究背景 | 第13-14页 |
1.2 研究目的和意义 | 第14-15页 |
1.2.1 研究目的 | 第14-15页 |
1.2.2 研究意义 | 第15页 |
1.3 研究现状 | 第15-18页 |
1.3.1 SDLM路径规划技术研究现状 | 第15-16页 |
1.3.2 快速成型激光拼接技术研究现状 | 第16-18页 |
1.4 研究内容和论文结构安排 | 第18-20页 |
1.4.1 论文研究内容 | 第18页 |
1.4.2 论文结构安排 | 第18-20页 |
第二章 SLM技术扫描路径填充方式分析 | 第20-29页 |
2.1 SLM技术振镜系统扫描原理 | 第20-21页 |
2.2 扫描路径优劣的评定指标 | 第21-22页 |
2.2.1 成型质量 | 第21页 |
2.2.2 成型效率 | 第21-22页 |
2.3 SLM技术几种扫描方式 | 第22-25页 |
2.3.1 直线来回扫描 | 第22-23页 |
2.3.2 分区直线来回扫描 | 第23页 |
2.3.3 分形扫描 | 第23-24页 |
2.3.4 螺旋扫描 | 第24-25页 |
2.3.5 星形扫描 | 第25页 |
2.4 偏置扫描 | 第25-28页 |
2.4.1 基于布尔求交的偏置扫描 | 第26-27页 |
2.4.2 非均匀变距偏置扫描 | 第27-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第三章 变距变次数均匀偏置扫描填充算法 | 第29-54页 |
3.1 任意简单凹多边形的凸分解 | 第29-38页 |
3.1.1 基本定义 | 第30页 |
3.1.2 多边形顶点顺序的顺逆性判定 | 第30-31页 |
3.1.3 多边形顶点凹凸性判定 | 第31-32页 |
3.1.4 多边形顶点可见性判定 | 第32页 |
3.1.5 多边形凹顶点的区域划分 | 第32-34页 |
3.1.6 多边形凹顶点最佳剖分处理 | 第34-36页 |
3.1.7 凹多边形剖分算法描述 | 第36-37页 |
3.1.8 凹多边形凸分解算法的实现和效果 | 第37-38页 |
3.2 凸多边形变距等次数偏置扫描填充 | 第38-50页 |
3.2.1 向量的偏置归纳 | 第38-39页 |
3.2.2 基于向量的两直线偏移后的交点求解 | 第39-42页 |
3.2.3 等距偏置扫描算法 | 第42-45页 |
3.2.4 变距等次数偏置扫描 | 第45-50页 |
3.3 变距变次数均匀偏置扫描填充 | 第50-51页 |
3.4 含有内孔时的多边形区域划分 | 第51-53页 |
3.4.1 基于内孔左边线的内外轮廓划分 | 第51-52页 |
3.4.2 基于顶点最近原则的内外轮廓划分 | 第52-53页 |
3.5 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 SDLM拼接区域的路径规划 | 第54-70页 |
4.1 SDLM拼接区域的技术处理 | 第54-58页 |
4.1.1 SDLM设备的结构和工作原理 | 第54-55页 |
4.1.2 SDLM成型区域的坐标划分 | 第55-56页 |
4.1.3 SDLM拼接区域的路径规划 | 第56-58页 |
4.2 SDLM的路径生成 | 第58-69页 |
4.2.1 切片层存储的文件格式 | 第58-59页 |
4.2.2 CLI文件存储格式 | 第59-61页 |
4.2.3 CLI文件的数据结构划分 | 第61-63页 |
4.2.4 CLI文件的信息读取 | 第63页 |
4.2.5 工艺参数的设定 | 第63-65页 |
4.2.6 SDLM路径规划算法对CLI文件的填充 | 第65-69页 |
4.3 本章小结 | 第69-70页 |
第五章 路径规划算法验证 | 第70-80页 |
5.1 SLM成型基础工艺 | 第70-71页 |
5.2 SLM成型基础工艺实验 | 第71-76页 |
5.2.1 实验设计与设备 | 第72-74页 |
5.2.2 工艺参数确定 | 第74-76页 |
5.3 SDLM成型质量实验 | 第76-79页 |
5.3.1 拼接区域最佳重合宽度 | 第76-77页 |
5.3.2 SDLM成型实验 | 第77-79页 |
5.4 本章小结 | 第79-80页 |
第六章 总结与展望 | 第80-82页 |
6.1 总结 | 第80-81页 |
6.2 展望 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
致谢 | 第86-87页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第87页 |