| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第13-14页 |
| 1.2 KDP晶体加工过程及残留物产生机理 | 第14-18页 |
| 1.2.1 单点金刚石切削过程 | 第14-15页 |
| 1.2.2 磁流变抛光过程 | 第15-17页 |
| 1.2.3 液态残留物吸附机理及存在状态 | 第17-18页 |
| 1.3 固体表面薄膜无损检测技术 | 第18-28页 |
| 1.3.1 薄膜检测方法研究现状 | 第19-21页 |
| 1.3.2 椭圆偏振测量技术的发展与研究现状 | 第21-24页 |
| 1.3.3 原子力显微镜在薄膜测量中的应用 | 第24-28页 |
| 1.4 主要研究内容及文章结构 | 第28-31页 |
| 1.4.1 主要研究内容 | 第28-29页 |
| 1.4.2 文章结构 | 第29-31页 |
| 第二章 薄膜椭圆偏振测量技术原理及方法 | 第31-64页 |
| 2.1 薄膜椭偏测量原理 | 第31-40页 |
| 2.1.1 光在薄膜表面的反射 | 第31-34页 |
| 2.1.2 薄膜表面反射光的偏振态变化表征 | 第34-36页 |
| 2.1.3 PCSA椭偏系统测量原理和测量模式 | 第36-39页 |
| 2.1.4 椭偏数据处理过程及评价函数 | 第39-40页 |
| 2.2 单轴各向异性晶体表面薄膜椭偏测量方法 | 第40-48页 |
| 2.2.1 椭偏测量中单轴晶体基底可替代性分析 | 第41-43页 |
| 2.2.2 单轴晶体主截面检测方法 | 第43-48页 |
| 2.3 椭偏测量光学模型建立 | 第48-51页 |
| 2.3.1 结构模型 | 第48-49页 |
| 2.3.2 色散模型 | 第49-51页 |
| 2.4 薄膜测量椭偏数据拟合算法 | 第51-63页 |
| 2.4.1 模拟退火算法 | 第51-54页 |
| 2.4.2 单纯形法 | 第54-56页 |
| 2.4.3 联合算法实现与模拟分析 | 第56页 |
| 2.4.4 联合算法关键参数分析 | 第56-63页 |
| 2.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第三章 KDP晶体表面油膜厚度椭偏测量方法研究 | 第64-83页 |
| 3.1 椭偏参数灵敏度分析 | 第64-69页 |
| 3.1.1 椭偏参数随入射角度变化灵敏度分析 | 第64-67页 |
| 3.1.2 椭偏参数随油膜厚度变化灵敏度分析 | 第67-69页 |
| 3.2 KDP晶体表面残留油膜的椭偏测量总体方案 | 第69-71页 |
| 3.3 KDP基底参数的椭偏测量 | 第71-74页 |
| 3.3.1 变入射角度模式下基底参数的测量 | 第71-73页 |
| 3.3.2 成像模式下基底参数的测量 | 第73-74页 |
| 3.4 KDP晶体表面残留油膜的椭偏测量 | 第74-82页 |
| 3.4.1 变入射角度模式下残留油膜的测量 | 第75-78页 |
| 3.4.2 成像模式下残留油膜的测量 | 第78-82页 |
| 3.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第四章 成像椭偏测量中KDP晶体表面切削纹理影响的去除方法 | 第83-106页 |
| 4.1 缺失数据处理及纹理背景去除方法分析 | 第83-85页 |
| 4.1.1 缺失数据处理 | 第83-84页 |
| 4.1.2 纹理背景分析方法 | 第84-85页 |
| 4.2 KDP晶体成像椭偏数据图像中纹理背景去除 | 第85-92页 |
| 4.2.1 切削纹理的频域特征分析 | 第86-87页 |
| 4.2.2 KDP晶体表面切削纹理主方向提取 | 第87-90页 |
| 4.2.3 频域滤波器的构建 | 第90-92页 |
| 4.3 纹理背景去除效果评价 | 第92-102页 |
| 4.3.1 灰度共生矩阵定义 | 第92-93页 |
| 4.3.2 灰度共生矩阵特征参数 | 第93-95页 |
| 4.3.3 灰度共生矩阵构造因子分析 | 第95-100页 |
| 4.3.4 纹理背景去除效果与特征参数关系分析 | 第100-102页 |
| 4.4 纹理去除误差分析 | 第102-105页 |
| 4.5 本章小结 | 第105-106页 |
| 第五章 基于原子力显微镜的KDP晶体表面油膜检测方法研究 | 第106-128页 |
| 5.1 轻敲模式下KDP晶体表面残留油膜检测 | 第106-111页 |
| 5.1.1 接触模式刮除油膜探针压力测试 | 第109-110页 |
| 5.1.2 KDP晶体表面残留油膜厚度分布结果 | 第110-111页 |
| 5.2 AM-FM模式下KDP晶体表面残留油膜检测方法 | 第111-117页 |
| 5.2.1 样品表面弹性模量与探针频率响应的关联性分析 | 第112-116页 |
| 5.2.2 样品表面弹性模量与动态压痕深度的关联性分析 | 第116-117页 |
| 5.3 AM-FM模式下KDP晶体表面残留油膜厚度检测结果 | 第117-125页 |
| 5.3.1 KDP晶体基底AM-FM模式测量 | 第118-120页 |
| 5.3.2 抛光清洗后KDP晶体表面油膜分布AM-FM模式测量 | 第120-123页 |
| 5.3.3 抛光后KDP晶体表面油膜分布AM-FM模式测量 | 第123-125页 |
| 5.4 椭偏和原子力显微镜油膜厚度测量结果对比分析 | 第125-126页 |
| 5.5 本章小结 | 第126-128页 |
| 第六章 总结与展望 | 第128-131页 |
| 6.1 全文总结 | 第128-129页 |
| 6.2 创新点 | 第129-130页 |
| 6.3 展望 | 第130-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 参考文献 | 第132-141页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第141页 |
