| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 超导材料的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.2 超导材料的特性和应用简介 | 第11页 |
| 1.3 超导带(线)材简介 | 第11-12页 |
| 1.4 YBCO超导层制备路线 | 第12-13页 |
| 1.5 YBCO过渡层制备路线及YBCO研究现状 | 第13-16页 |
| 1.5.1 ISD路线 | 第13-14页 |
| 1.5.2 RABiTS路线 | 第14-15页 |
| 1.5.3 IBAD路线 | 第15页 |
| 1.5.4 YBCO带材研究现状 | 第15-16页 |
| 1.6 论文选题依据及研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第18-28页 |
| 2.1 实验方法 | 第18-25页 |
| 2.1.1 溶液沉积平坦化方法 | 第18-21页 |
| 2.1.2 离子束辅助沉积方法 | 第21-25页 |
| 2.1.3 自外延方法 | 第25页 |
| 2.2 薄膜的表征方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第25-26页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第26-27页 |
| 2.2.3 反射式高能电子衍射仪 | 第27页 |
| 2.2.4 光学显微镜 | 第27-28页 |
| 第三章 非晶Y_2O_3薄膜的制备与研究 | 第28-47页 |
| 3.1 SDP实验设备与流程 | 第29-30页 |
| 3.1.1 SDP工艺简介 | 第29页 |
| 3.1.2 SDP设备简介与前驱液的配置 | 第29-30页 |
| 3.2 SDP法制备非晶Y_2O_3非晶薄膜的研究 | 第30-37页 |
| 3.2.1 前驱液浓度对Y_2O_3薄膜的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.2 提拉速度对Y_2O_3薄膜的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.3 烧结温度对Y_2O_3薄膜的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.4 涂覆层数对Y_2O_3薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 3.3 长哈氏合金基带上制备Y_2O_3非晶薄膜的研究 | 第37-41页 |
| 3.3.1 前驱液稳定性的研究 | 第37-38页 |
| 3.3.2 前驱液浓度变化的研究 | 第38页 |
| 3.3.3 440m长哈氏合金基带上制备Y_2O_3非晶薄膜与其均匀性研究 | 第38-41页 |
| 3.4 宽基带上制备Y_2O_3非晶薄膜的研究 | 第41-45页 |
| 3.4.1 宽基带的制备与测试 | 第41-44页 |
| 3.4.2 两种基带的对比 | 第44-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 双轴织构MgO薄膜的制备与研究 | 第47-69页 |
| 4.1 IBAD-MgO薄膜的制备与研究 | 第47-59页 |
| 4.1.1 屏极电压对IBAD-MgO薄膜制备的影响 | 第47-51页 |
| 4.1.2 走带速度对IBAD-MgO薄膜制备的影响 | 第51-53页 |
| 4.1.3 沉积速率与离子束流对IBAD-MgO薄膜制备的影响 | 第53-54页 |
| 4.1.4 离子束流对IBAD-MgO薄膜制备的影响 | 第54-55页 |
| 4.1.5 沉积速率和离子束流的匹配研究 | 第55-59页 |
| 4.2 Epi-MgO薄膜的制备与研究 | 第59-63页 |
| 4.2.1 沉积速率对Epi-MgO薄膜的影响 | 第59-61页 |
| 4.2.2 厚度对Epi-MgO薄膜质量的影响 | 第61-63页 |
| 4.3 一次性双面双轴织构MgO薄膜的制备 | 第63-68页 |
| 4.3.1 双面MgO薄膜的技术方法 | 第64-65页 |
| 4.3.2 测试结果及均匀性讨论 | 第65-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 结论及创新点 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第76页 |
