| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 透明导电薄膜简介及应用 | 第9-10页 |
| 1.2 透明导电薄膜种类及研究进展 | 第10-12页 |
| 1.3 金属氧化物透明导电薄膜的制备方法 | 第12-16页 |
| 1.3.1 磁控溅射法 | 第12页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积法 | 第12页 |
| 1.3.3 激光分子束外延沉积法 | 第12-13页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶法 | 第13-16页 |
| 1.4 本论文的选题依据与研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 样品的制备及样品表征方法 | 第18-25页 |
| 2.1 样品的制备 | 第18-20页 |
| 2.1.1 实验药品及仪器 | 第18-19页 |
| 2.1.2 前驱体溶液的制备 | 第19页 |
| 2.1.3 薄膜的制备 | 第19-20页 |
| 2.2 样品的表征方法 | 第20-25页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第20-21页 |
| 2.2.2 热重-差热分析仪 | 第21页 |
| 2.2.3 X射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| 2.2.5 霍尔测试 | 第22-23页 |
| 2.2.6 紫外-可见吸收光谱 | 第23-24页 |
| 2.2.7 傅里叶-红外吸收光谱 | 第24-25页 |
| 第三章 自燃烧法制备IZO透明导电薄膜 | 第25-31页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 调节In与Zn的比例对IZO金属氧化物薄膜光电性质的影响 | 第25-28页 |
| 3.2.1 电学性质分析 | 第25-26页 |
| 3.2.2 光学性质分析 | 第26-27页 |
| 3.2.3 热重-差热现象分析 | 第27-28页 |
| 3.2.4 物相结构分析 | 第28页 |
| 3.3 调节热退火温度对IZO薄膜影响的研究 | 第28-30页 |
| 3.3.1 表面形貌分析 | 第28-29页 |
| 3.3.2 光电性质影响的研究 | 第29页 |
| 3.3.3 物相结构分析 | 第29-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 深紫外激光辐照对自燃烧法制备InZnO薄膜光电性质影响的研究 | 第31-44页 |
| 4.1 引言 | 第31页 |
| 4.2 深紫外脉冲激光辐照对不同比例下IZO薄膜的影响 | 第31-34页 |
| 4.2.1 电学性质分析 | 第31-33页 |
| 4.2.2 光学性质分析 | 第33页 |
| 4.2.3 物相结构分析 | 第33-34页 |
| 4.3 深紫外脉冲激光辐照对不同退火温度下IZO薄膜的影响 | 第34-36页 |
| 4.3.1 表面形貌分析 | 第34-35页 |
| 4.3.2 物相结构分析 | 第35页 |
| 4.3.3 光电性质影响的研究 | 第35-36页 |
| 4.4 激光能量密度的变化对IZO薄膜影响的研究 | 第36-42页 |
| 4.4.1 调节前驱体溶液的热重-差热分析 | 第36-37页 |
| 4.4.2 物相结构分析 | 第37-39页 |
| 4.4.3 表面形貌分析 | 第39-40页 |
| 4.4.4 光学性质分析 | 第40-41页 |
| 4.4.5 电学性质分析 | 第41-42页 |
| 4.5 小结 | 第42-44页 |
| 第五章 深紫外激光辐照对薄膜性质影响机理的研究 | 第44-50页 |
| 5.1 深紫外激光辐照前后的FT-IR分析 | 第44页 |
| 5.2 深紫外激光辐照前后的XPS分析 | 第44-46页 |
| 5.3 深紫外激光辐照作用机理分析 | 第46-49页 |
| 5.4 小结 | 第49-50页 |
| 第六章 结论与展望 | 第50-51页 |
| 6.1 结论 | 第50页 |
| 6.2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第59页 |
