| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 纳米科学技术概述 | 第12-13页 |
| 1.2 砷化镓材料的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 砷化镓表面常见的纳米加工技术 | 第15-22页 |
| 1.3.1 光刻技术 | 第15-16页 |
| 1.3.2 纳米压印技术 | 第16-18页 |
| 1.3.3 聚焦离子束加工技术 | 第18-19页 |
| 1.3.4 机械直写技术 | 第19-20页 |
| 1.3.5 基于扫描探针的局部阳极氧化加工技术 | 第20-22页 |
| 1.4 摩擦诱导纳米加工技术 | 第22-25页 |
| 1.4.1 摩擦诱导直接加工 | 第22-24页 |
| 1.4.2 摩擦诱导选择性刻蚀加工 | 第24-25页 |
| 1.5 课题研究意义及研究内容 | 第25-29页 |
| 1.5.1 课题研究意义 | 第25-26页 |
| 1.5.2 课题研究内容 | 第26-29页 |
| 第二章 实验材料和方法 | 第29-39页 |
| 2.1 实验材料 | 第29-31页 |
| 2.2 实验设备 | 第31-35页 |
| 2.2.1 原子力显微镜 | 第31-34页 |
| 2.2.2 多点接触微纳米级加工设备 | 第34-35页 |
| 2.3 实验方法 | 第35-37页 |
| 2.3.1 砷化镓表面的摩擦化学去除实验 | 第35-36页 |
| 2.3.2 摩擦诱导选择性刻蚀加工 | 第36-37页 |
| 2.4 化学成分和微观结构的表征方法 | 第37-39页 |
| 2.4.1 X-射线光电子能谱及化学成分表征 | 第37-38页 |
| 2.4.2 透射电子显微镜及微观结构表征 | 第38-39页 |
| 第三章 刻划速度和环境湿度对砷化镓表面摩擦化学去除的影响规律 | 第39-49页 |
| 3.1 砷化镓表面摩擦化学去除的发现 | 第39-41页 |
| 3.2 刻划速度对砷化镓表面材料去除的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.1 形貌观测 | 第41-42页 |
| 3.2.2 不同速度下砷化镓表面材料去除规律 | 第42-43页 |
| 3.3 环境湿度对砷化镓表面材料去除的影响 | 第43-48页 |
| 3.3.1 形貌观测 | 第43-45页 |
| 3.3.2 不同湿度下砷化镓表面材料去除规律 | 第45-46页 |
| 3.3.3 不同湿度下GaAs/SiO_2配副的粘着力变化规律 | 第46-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 刻划速度和环境湿度对砷化镓表面摩擦化学去除的作用机理 | 第49-54页 |
| 4.1 砷化镓磨屑的XPS分析 | 第49-50页 |
| 4.2 材料去除区域XTEM分析 | 第50-51页 |
| 4.3 针尖形貌表征 | 第51-52页 |
| 4.4 砷化镓表面摩擦化学去除机理 | 第52-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 温度对砷化镓表面摩擦诱导选择性刻蚀的影响研究 | 第54-63页 |
| 5.1 刻蚀剂浓度的选择 | 第54-57页 |
| 5.1.1 刻蚀剂浓度对砷化镓表面纳米凸结构高度的影响 | 第54-56页 |
| 5.1.2 刻蚀剂浓度对砷化镓表面粗糙度的影响 | 第56-57页 |
| 5.2 刻蚀温度对砷化镓表面的纳米凸结构高度的影响 | 第57-58页 |
| 5.3 刻蚀温度对砷化镓表面粗糙度的影响 | 第58-60页 |
| 5.4 刻蚀温度对砷化镓表面摩擦诱导选择性刻蚀影响机理探究 | 第60-61页 |
| 5.5 砷化镓表面摩擦诱导选择性刻蚀的条件优化探讨 | 第61页 |
| 5.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间的成果 | 第72页 |
