| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 WO_3电致变色薄膜研究概况 | 第10-15页 |
| 1.2.1 WO_3薄膜的结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 WO_3电致变色器件 | 第11-12页 |
| 1.2.3 WO_3薄膜的变色机理 | 第12-15页 |
| 1.3 ITO光电性能研究概况 | 第15-17页 |
| 1.3.1 ITO电学性能 | 第15页 |
| 1.3.2 ITO光学性能 | 第15-17页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第17-18页 |
| 1.5 选题意义及主要内容 | 第18-21页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第18-19页 |
| 1.5.2 主要内容 | 第19-21页 |
| 2 实验方案与实验条件 | 第21-25页 |
| 2.1 研究方案 | 第21页 |
| 2.2 实验方法 | 第21-22页 |
| 2.3 实验仪器设备 | 第22-25页 |
| 3 ITO纳米晶薄膜的电致变色性能研究 | 第25-39页 |
| 3.1 ITO溶胶配制方案 | 第25-26页 |
| 3.2 ITO薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 3.3 热处理温度对ITO纳米晶薄膜性能的影响 | 第27-35页 |
| 3.3.1 对ITO薄膜晶体结构分析 | 第27-28页 |
| 3.3.2 ITO薄膜的表面形貌分析 | 第28-29页 |
| 3.3.3 ITO薄膜的XPS分析 | 第29-32页 |
| 3.3.4 ITO薄膜导电性能分析 | 第32-33页 |
| 3.3.5 ITO薄膜的电致变色性能分析 | 第33-35页 |
| 3.4 ITO纳米晶近红外电致变色机理讨论 | 第35-38页 |
| 3.5 小结 | 第38-39页 |
| 4 含有纳米晶ITO的非晶WO_3薄膜制备及电致变色性能研究 | 第39-57页 |
| 4.1 ITO-WO_3溶胶配制方案 | 第39-41页 |
| 4.2 ITO-WO_3薄膜的制备 | 第41页 |
| 4.3 热处理温度对ITO-WO_3复合薄膜性能的影响 | 第41-49页 |
| 4.3.1 ITO-WO_3薄膜晶体结构分析 | 第41-42页 |
| 4.3.2 ITO-WO_3薄膜XPS分析 | 第42-43页 |
| 4.3.3 ITO-WO_3薄膜表面形貌分析 | 第43-45页 |
| 4.3.4 ITO-WO_3薄膜电致变色性能分析 | 第45-49页 |
| 4.4 ITO含量对ITO-WO_3复合薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| 4.4.1 ITO-WO_3薄膜晶体结构分析 | 第49-50页 |
| 4.4.2 ITO-WO_3薄膜微观结构分析 | 第50-51页 |
| 4.4.3 ITO-WO_3薄膜电致变色性能检测 | 第51-55页 |
| 4.5 ITO-WO_3薄膜电致变色机理讨论 | 第55-56页 |
| 4.6 小结 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 作者在攻读硕士学位期间申请的专利 | 第67页 |
| 已经投稿的论文 | 第67页 |
