| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 前言 | 第8-20页 |
| 1.1 超导材料简介 | 第8-12页 |
| 1.1.1 超导材料发展历程 | 第8-9页 |
| 1.1.2 超导材料基本特性和微观理论 | 第9-10页 |
| 1.1.3 高温超导材料研究概况 | 第10-11页 |
| 1.1.4 高温超导材料的应用前景 | 第11-12页 |
| 1.1.4.1 HTS在强电中的应用 | 第11-12页 |
| 1.1.4.2 HTS在弱电中的应用 | 第12页 |
| 1.2 YBCO简介 | 第12-15页 |
| 1.2.1 YBCO晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 YBCO高温超导薄膜薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2.3 YBCO薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.3 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第15-19页 |
| 1.3.1 PLD发展过程 | 第15-16页 |
| 1.3.2 PLD原理 | 第16-19页 |
| 1.4 研究内容及选题意义 | 第19-20页 |
| 2 实验方案与实验条件 | 第20-26页 |
| 2.1 实验方案 | 第20页 |
| 2.2 实验条件 | 第20-26页 |
| 2.2.1 薄膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.2 薄膜的表征 | 第22-26页 |
| 3 沉积参数对YBCO薄膜生长取向的影响 | 第26-48页 |
| 3.1 沉积气压对YBCO薄膜生长取向的影响 | 第26-28页 |
| 3.2 激光能量对YBCO薄膜生长取向的影响 | 第28-31页 |
| 3.3 加工样品台后沉积参数对YBCO薄膜取向的影响 | 第31-41页 |
| 3.3.1 温度对YBCO薄膜生长的影响 | 第32-37页 |
| 3.3.2 氧气气压对YBCO薄膜生长的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.3 激光能量对YBCO薄膜生长的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.4 激光能量密度对YBCO薄膜生长的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 不同取向YBCO薄膜的表面形貌分析 | 第41-42页 |
| 3.5 不同取向YBCO薄膜的电学性能测试 | 第42-43页 |
| 3.6 不同取向YBCO薄膜的TEM分析 | 第43-46页 |
| 3.7 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 不同取向YBCO多层膜的制备 | 第48-60页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 引入氩气后YBCO薄膜的制备与表征 | 第48-55页 |
| 4.2.1 不同沉积气压对YBCO薄膜取向的影响 | 第48-51页 |
| 4.2.2 不同频率对YBCO薄膜取向的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.3 YBCO薄膜的超导性能测试 | 第52-53页 |
| 4.2.4 最优参数下YBCO薄膜的表面形貌分析(SEM) | 第53-54页 |
| 4.2.5 最优参数下YBCO薄膜的HRTEM分析 | 第54-55页 |
| 4.2.6 YBCO薄膜相图 | 第55页 |
| 4.3 YBCO多层膜结构的制备 | 第55-56页 |
| 4.4 YBCO多层膜结构的表征 | 第56-58页 |
| 4.4.1 YBCO多层膜的XRD分析 | 第56-57页 |
| 4.4.2 YBCO多层膜的SEM分析 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 5 结论 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
