含氢类金刚石膜生长及摩擦机理研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第8-29页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 含氢类金刚石膜的制备方法 | 第9-11页 |
| 1.3 含氢类金刚石膜的生长研究 | 第11-21页 |
| 1.3.1 实验方面 | 第11-13页 |
| 1.3.2 类金刚石膜结构的表征 | 第13-14页 |
| 1.3.3 模拟方面 | 第14-19页 |
| 1.3.4 含氢类金刚石膜生长机制 | 第19-21页 |
| 1.4 含氢类金刚石膜的摩擦 | 第21-27页 |
| 1.4.1 薄膜结构和成分的影响 | 第21-23页 |
| 1.4.2 气体环境的影响 | 第23-24页 |
| 1.4.3 测试条件的影响 | 第24-25页 |
| 1.4.4 摩擦机理研究 | 第25-27页 |
| 1.5 本文的主要工作 | 第27-29页 |
| 第2章 模拟方法 | 第29-36页 |
| 2.1 核心思想 | 第29页 |
| 2.2 势函数 | 第29-33页 |
| 2.3 控温方法 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 含氢类金刚石膜的生长 | 第36-51页 |
| 3.1 生长过程的模拟体系 | 第36-38页 |
| 3.2 含氢类金刚石膜结构的能量依赖性 | 第38-44页 |
| 3.2.1 薄膜微观结构 | 第38-40页 |
| 3.2.2 薄膜分层结构 | 第40-42页 |
| 3.2.3 入射能量的影响 | 第42-44页 |
| 3.3 含氢类金刚石膜生长机制 | 第44-45页 |
| 3.4 入射源特性的影响 | 第45-50页 |
| 3.4.1 入射源碳氢比的影响 | 第45-49页 |
| 3.4.2 入射源基团特性的影响 | 第49-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 含氢类金刚石膜的摩擦 | 第51-62页 |
| 4.1 摩擦过程的模拟体系 | 第51-52页 |
| 4.2 含氢类金刚石膜微观摩擦行为 | 第52-54页 |
| 4.3 原子尺度摩擦机理 | 第54-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 结论 | 第62-64页 |
| 5.1 薄膜生长过程的主要结论 | 第62-63页 |
| 5.2 薄膜摩擦过程的主要结论 | 第63页 |
| 5.3 后续研究展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第71页 |
