压电陶瓷微位移的光干涉检测及复合控制研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 压电陶瓷微位移测量的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 压电陶瓷非线性模型 | 第12-14页 |
| 1.3.1 压电陶瓷的物理模型 | 第13页 |
| 1.3.2 压电陶瓷的数学模型 | 第13-14页 |
| 1.4 压电陶瓷的复合控制 | 第14-16页 |
| 1.4.1 PID控制方法 | 第14-15页 |
| 1.4.2 PID控制器参数的整定 | 第15-16页 |
| 1.5 课题研究的意义和主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 基于迈克尔逊干涉原理的位移测量装置 | 第18-26页 |
| 2.1 迈克尔逊干涉方法 | 第18-19页 |
| 2.2 基于多次反射的光路倍程放大装置 | 第19-24页 |
| 2.2.1 光路放大系数的理论计算 | 第20-22页 |
| 2.2.2 干涉系统的光学仿真 | 第22-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 位移放大的光干涉平台搭建 | 第26-38页 |
| 3.1 光干涉测量光路的搭建 | 第26-30页 |
| 3.1.1 动镜与定镜夹角的调控 | 第26-28页 |
| 3.1.2 压电陶瓷致动器的选型与驱动 | 第28-30页 |
| 3.2 光电转换器的选型 | 第30-33页 |
| 3.3 光干涉系统的构建 | 第33-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-38页 |
| 第四章 基于压电陶瓷迟滞逆模型的前馈控制 | 第38-48页 |
| 4.1 压电陶瓷的极坐标模型 | 第38-40页 |
| 4.2 压电陶瓷极坐标模型的实测数据拟合 | 第40-42页 |
| 4.3 压电陶瓷微位移的前馈控制 | 第42-46页 |
| 4.3.1 压电陶瓷微位移的光干涉检测 | 第43-45页 |
| 4.3.2 前馈控制实验结果 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 压电陶瓷微位移的复合控制系统 | 第48-58页 |
| 5.1 复合控制系统的结构 | 第48-49页 |
| 5.2 压电陶瓷传递函数的导出 | 第49-52页 |
| 5.3 基于遗传算法的PID参数整定 | 第52-55页 |
| 5.4 压电陶瓷复合控制系统的数值分析 | 第55-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 总结 | 第58-59页 |
| 6.2 存在的问题与下一步的工作 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附录 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第72页 |
