桔霉素上转换荧光传感检测方法的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 前言 | 第9-23页 |
| ·真菌毒素简介 | 第9页 |
| ·桔霉素简介 | 第9-12页 |
| ·基本理化性质 | 第9页 |
| ·毒性作用及其限量标准 | 第9-10页 |
| ·桔霉素常用的检测方法 | 第10-12页 |
| ·上转换荧光纳米材料 | 第12-15页 |
| ·上转换荧光纳米材料概述 | 第12-13页 |
| ·UCNPs的发光机理 | 第13-14页 |
| ·UCNPs的制备方法 | 第14-15页 |
| ·核壳结构 | 第15-16页 |
| ·核壳结构的基本性质 | 第15-16页 |
| ·二氧化硅为外壳的核壳结构制备方法 | 第16页 |
| ·分子印迹技术 | 第16-21页 |
| ·分子印迹技术的发展 | 第16-17页 |
| ·分子印迹技术原理 | 第17页 |
| ·分子印迹聚合物制备过程 | 第17-18页 |
| ·分子印迹聚合物制备方法 | 第18-20页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第20-21页 |
| ·研究目的及意义 | 第21页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 2 材料与方法 | 第23-30页 |
| ·实验材料和仪器 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·主要仪器设备 | 第23-24页 |
| ·主要溶剂配制 | 第24页 |
| ·实验方法 | 第24-30页 |
| ·UCNPs的合成与表征 | 第24-25页 |
| ·UCNPs@SiO_2的合成与表征 | 第25-26页 |
| ·DHNA分子印迹聚合物的制备与表征 | 第26-27页 |
| ·吸附介质的选择 | 第27页 |
| ·荧光分子印迹聚合物对DHNA吸附平衡结合实验 | 第27页 |
| ·荧光分子印迹聚合物对DHNA吸附动力学实验 | 第27-28页 |
| ·吸附选择性实验 | 第28页 |
| ·竞争性实验 | 第28页 |
| ·实际样品的测定 | 第28-30页 |
| 3 结果与讨论 | 第30-57页 |
| ·UCNPs合成条件的优化 | 第30-31页 |
| ·稀土离子浓度 | 第30页 |
| ·稀土离子与氟离子的比例 | 第30-31页 |
| ·反应时间 | 第31页 |
| ·UCNPs的表征 | 第31-34页 |
| ·荧光光谱表征 | 第32-33页 |
| ·傅里叶红外光谱表征 | 第33页 |
| ·X射线衍射表征 | 第33-34页 |
| ·扫描电镜表征 | 第34页 |
| ·UCNPs@SiO_2合成条件的优化 | 第34-36页 |
| ·反应温度 | 第35页 |
| ·反应时间 | 第35-36页 |
| ·UCNPs@SiO_2的表征 | 第36-39页 |
| ·荧光光谱表征 | 第36-37页 |
| ·傅里叶红外光谱表征 | 第37页 |
| ·X-射线衍射表征 | 第37-38页 |
| ·扫描电镜表征 | 第38页 |
| ·透射电镜表征 | 第38-39页 |
| ·荧光分子印迹聚合物合成原理 | 第39-40页 |
| ·荧光分子印迹聚合物合成条件的优化 | 第40-44页 |
| ·反应溶剂 | 第40-41页 |
| ·UCNPs@SiO_2用量 | 第41-42页 |
| ·模板、单体和交联剂的配比 | 第42页 |
| ·反应温度 | 第42-43页 |
| ·反应时间 | 第43页 |
| ·催化剂 | 第43-44页 |
| ·模板分子的去除 | 第44页 |
| ·荧光分子印迹聚合物的表征 | 第44-46页 |
| ·傅里叶红外光谱表征 | 第45页 |
| ·扫描电镜表征 | 第45-46页 |
| ·透射电镜表征 | 第46页 |
| ·荧光分子印迹聚合物吸附实验 | 第46-51页 |
| ·吸附介质的选择 | 第46-47页 |
| ·吸附平衡试验 | 第47-48页 |
| ·吸附动力学实验 | 第48页 |
| ·荧光猝灭机理 | 第48-49页 |
| ·吸附选择性实验 | 第49-51页 |
| ·线性范围及检出限 | 第51-52页 |
| ·实际样品的测定 | 第52-57页 |
| ·分子印迹荧光检测法测定样品 | 第52-53页 |
| ·高效液相色谱法测定样品 | 第53-56页 |
| ·两种分析检测方法的比较 | 第56-57页 |
| 4 结论 | 第57-59页 |
| 5 展望 | 第59-60页 |
| 6 参考文献 | 第60-66页 |
| 7 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第66-67页 |
| 8 致谢 | 第67页 |
