微光学器件数字掩模制作技术的研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
图表清单	第9-13页
注释表	第13-14页
缩略词	第14-15页
第一章 绪论	第15-26页
·研究背景	第15-16页
·微光学器件无掩模制作技术进展	第16-24页
·电子束光刻技术	第16页
·聚焦离子束光刻技术	第16-17页
·激光直写技术	第17页
·激光干涉光刻技术	第17-18页
·波带片阵列光刻技术	第18-19页
·数字掩模制作技术	第19-24页
·论文的内容安排	第24-26页
第二章 数字灰阶渐变掩模技术	第26-40页
·数字掩模制作技术原理	第26-28页
·DMD 光开关原理	第26-27页
·二元脉宽调制技术	第27-28页
·数字掩模制作系统及工艺流程	第28-31页
·数字掩模制作系统设计	第28-30页
·数字掩模制作系统工作原理	第30-31页
·数字掩模制作技术工艺流程	第31页
·数字灰阶渐变掩模技术原理	第31-34页
·DMD 像素误差	第34-35页
·数字灰阶渐变掩模设计	第35-37页
·具有线性表面轮廓的锥透镜掩模设计	第35-36页
·具有非线性表面轮廓的微透镜掩模设计	第36-37页
·数字灰阶渐变掩模实验	第37-39页
·本章小结	第39-40页
第三章 数字移动掩模技术	第40-65页
·数字移动掩模技术曝光原理	第40-42页
·数字掩模“圆周”移动	第42-43页
·单向数字移动掩模法	第43-50页
·单向数字移动掩模函数设计	第43-45页
·单向移动仿真及误差分析	第45-48页
·单向数字移动掩模实验	第48-50页
·多向数字移动掩模法	第50-57页
·多向数字移动掩模函数设计	第50-52页
·多向移动仿真及误差分析	第52-55页
·多向数字移动掩模实验	第55-57页
·基于微切片投影的数字移动掩模法	第57-64页
·基于微切片投影的数字移动掩模函数设计	第58-59页
·仿真及误差分析	第59-62页
·基于微切片投影的数字移动掩模实验	第62-64页
·本章小结	第64-65页
第四章 数字旋转掩模技术	第65-91页
·数字旋转掩模技术曝光原理	第65-67页
·数字旋转掩模函数设计方法	第67-68页
·衍射光学器件设计	第68-70页
·小数值孔径衍射光学透镜设计	第68-69页
·大数值孔径衍射光学透镜设计	第69-70页
·小数值孔径谐衍射透镜设计	第70页
·大数值孔径谐衍射透镜设计	第70页
·设计波长的合理选择	第70-71页
·衍射光学器件数字旋转掩模仿真及误差分析	第71-76页
·衍射光学器件数字旋转掩模设计	第71-73页
·仿真及误差分析	第73-76页
·衍射光学器件数字旋转掩模实验	第76-80页
·基于微切片投影的数字旋转掩模法	第80-90页
·基于微切片投影的数字旋转掩模函数设计	第81-83页
·仿真及误差分析	第83-85页
·基于微切片投影的数字旋转掩模实验	第85-90页
·本章小结	第90-91页
第五章 数字分形掩模技术	第91-111页
·掩模分形的必要性分析	第91-92页
·数字分形掩模技术原理	第92-94页
·数字分形掩模技术的分形方法	第94-102页
·周期扩大分形法	第94-98页
·位编码分形法	第98-102页
·周期扩大结合位编码分形法	第102页
·数字分形掩模技术实验	第102-110页
·周期扩大分形法实验	第103-104页
·位编码分形法实验	第104-109页
·周期扩大结合位编码分形法实验	第109-110页
·本章小结	第110-111页
第六章 总结与展望	第111-114页
·全文总结	第111-113页
·研究展望	第113-114页
参考文献	第114-127页
致谢	第127-128页
在学期间的研究成果及发表的学术论文	第128-129页