| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·非制冷红外探测 | 第11-13页 |
| ·二氧化钒薄膜在非制冷红外探测中的应用 | 第13-14页 |
| ·研究现状 | 第14-15页 |
| ·本课题的意义 | 第15-16页 |
| 第二章 二氧化钒薄膜的制备 | 第16-21页 |
| ·实验的主要装置 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射 | 第16-17页 |
| ·快速退火 | 第17页 |
| ·实验步骤 | 第17-18页 |
| ·镀膜前准备 | 第18页 |
| ·金属V薄膜的制备 | 第18页 |
| ·氧化金属V薄膜 | 第18页 |
| ·二氧化钒薄膜的表征方法 | 第18-21页 |
| ·方块电阻 | 第19页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第19-21页 |
| 第三章 VO_2薄膜相变回滞带宽的研究 | 第21-34页 |
| ·VO_2薄膜的工艺参数 | 第21-22页 |
| ·结果与讨论 | 第22-33页 |
| ·VO_2的微观形貌对相变回滞带宽的影响 | 第24-30页 |
| ·VO_2的相变回滞带宽模型 | 第30-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 变温原位HRTEM研究VO_2绝缘体-金属相变机理 | 第34-49页 |
| ·研究背景 | 第34-36页 |
| ·原位透射电镜 | 第34-35页 |
| ·强关联电子体系材料 | 第35页 |
| ·VO_2绝缘体-金属相变 | 第35-36页 |
| ·样品合成与测试方法 | 第36-48页 |
| ·样品合成 | 第36-37页 |
| ·样品表征 | 第37-39页 |
| ·变温原位TEM测量 | 第39-43页 |
| ·V-V原子对 | 第43-46页 |
| ·电子-声子耦合的作用 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 非制冷红外焦平面器件的设计 | 第49-55页 |
| ·器件的工作原理 | 第49-50页 |
| ·器件的性能参数 | 第50-51页 |
| ·结构设计 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·论文总结 | 第55页 |
| ·工作展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士期间获得的成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |