| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·低温等离子体概述 | 第13-16页 |
| ·等离子体的定义以及相关重要概念 | 第13页 |
| ·等离子体的种类 | 第13-14页 |
| ·低温等离子体电源驱动模式 | 第14-16页 |
| ·低温等离子体的应用 | 第16-17页 |
| ·容性耦合等离子体的研究现状 | 第17-18页 |
| ·低温容性耦合等离子的理论研究模型 | 第18-21页 |
| ·均匀容性耦合等离子体放电模型 | 第18-19页 |
| ·非均匀容性耦合等离子体放电模型 | 第19-20页 |
| ·非麦克斯韦分布的容性耦合等离子体模型 | 第20-21页 |
| ·容性耦合等离子的相关效应 | 第21-23页 |
| ·等离子体表面趋肤效应 | 第21页 |
| ·等离子体消散趋肤效应 | 第21-22页 |
| ·等离子体驻波效应 | 第22-23页 |
| ·光刻胶的刻蚀简介 | 第23页 |
| ·本文研究的内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验装置 | 第24-36页 |
| ·射频容性耦合等离子体设备 | 第24-25页 |
| ·朗缪尔探针诊断 | 第25-34页 |
| ·等离子体诊断技术简介 | 第25-30页 |
| ·朗缪尔探针装置 | 第30-32页 |
| ·朗缪尔双探针扫描电压的影响 | 第32-34页 |
| ·光刻胶刻蚀速率的计算方法 | 第34-36页 |
| 第三章 氩气容性耦合等离子的探针研究 | 第36-49页 |
| ·氩气(Ar)容性耦合等离子体的探针研究 | 第36-48页 |
| ·放电参数和极板配置对等离子体的影响研究 | 第36-43页 |
| ·氩气容性耦合等离子参数的空间分布研究 | 第43-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 氩气等离子体光刻胶的刻蚀速率研究 | 第49-57页 |
| ·等离子体参数对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第49-50页 |
| ·等离子体空间位置对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第50-54页 |
| ·极板间距对光刻胶刻蚀的速率的影响 | 第54-56页 |
| ·功率对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 氧气容性耦合等离子体放电以及对光刻胶的刻蚀研究 | 第57-62页 |
| ·氧气等离子体的探针研究 | 第57-59页 |
| ·功率对氧气耦合等离子体的影响 | 第57-58页 |
| ·气压对氧气等离子体的影响 | 第58-59页 |
| ·等离子体参数对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第59-60页 |
| ·功率对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第60-61页 |
| ·Ar/O2中氧气含量对光刻胶刻蚀速率的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62页 |
| 第六章 结论 | 第62-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 硕士期间发表论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |