| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·氢敏材料的研究现状 | 第10-12页 |
| ·储氢材料LaNi_5 | 第12-15页 |
| ·LaNi_5合金 | 第12-13页 |
| ·LaNi_5的储氢性质 | 第13-14页 |
| ·LaNi_5储氢性质的研究现状 | 第14-15页 |
| ·LaNi_5的氢敏性质的研究前景 | 第15页 |
| ·本文的研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 LaNi_5薄膜的制备及表征 | 第17-24页 |
| ·射频溅射原理及装置 | 第17-19页 |
| ·薄膜微观结构的表征 | 第19-20页 |
| ·X射线衍射方法(XRD-X-ray diffraction) | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM-Scanning electron microscope) | 第19-20页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS-X-ray photoelectron spectroscope) | 第20页 |
| ·实验方案设计 | 第20-21页 |
| ·制备缓冲层Ni膜和LaNi_5薄膜 | 第21-24页 |
| ·射频磁控溅射制备Ni膜 | 第21-22页 |
| ·LaNi_5薄膜制备 | 第22-24页 |
| 第三章 LaNi_5薄膜的生长规律研究 | 第24-31页 |
| ·薄膜的生长 | 第24-26页 |
| ·衬底温度对LaNi_5薄膜的影响 | 第26-27页 |
| ·沉积功率对LaNi_5薄膜的影响 | 第27-28页 |
| ·靶基距对LaNi_5薄膜的影响 | 第28-29页 |
| ·沉积气压对LaNi_5薄膜的影响 | 第29-31页 |
| 第四章 LaNi_5薄膜的表面处理 | 第31-37页 |
| ·表面处理 | 第31-32页 |
| ·LaNi_5薄膜表面氟化处理 | 第32页 |
| ·LaNi_5薄膜表面包覆Pt | 第32-33页 |
| ·LaNi_5薄膜的退火与表征 | 第33-37页 |
| ·LaNi_5薄膜的退火条件 | 第33-34页 |
| ·结构表征 | 第34-37页 |
| 第五章 传感器元件的氢敏性能分析 | 第37-43页 |
| ·测试装置与测试步骤 | 第37-38页 |
| ·表面包覆Pt | 第38页 |
| ·退火处理 | 第38-43页 |
| ·氢敏特性研究 | 第38-40页 |
| ·氢敏机理分析 | 第40-43页 |
| 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 附录 硕士期间的研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
