| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 氮化铝薄膜概述 | 第6-11页 |
| ·引言 | 第6页 |
| ·AlN薄膜的性质和应用 | 第6-9页 |
| ·AlN薄膜的研究进展 | 第9-10页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第10-11页 |
| 第二章 PLD方法制备AlN薄膜 | 第11-15页 |
| ·AlN薄膜的常用制备方法 | 第11-12页 |
| ·PLD方法制备AlN薄膜 | 第12-15页 |
| ·PLD方法的特点 | 第13-14页 |
| ·本课题中AlN薄膜的制备与检测 | 第14-15页 |
| 第三章 衬底温度和沉积气压对AlN薄膜质量的影响 | 第15-30页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·室温下制备AlN薄膜 | 第16-20页 |
| ·衬底温度和沉积气压对AlN薄膜结构的影响 | 第20-28页 |
| ·小结 | 第28-30页 |
| 第四章 激光能量密度、脉冲频率和退火处理对AlN薄膜质量的影响 | 第30-37页 |
| ·激光能量密度的影响 | 第30-32页 |
| ·脉冲频率的影响 | 第32页 |
| ·退火处理对AlN薄膜结构性质的影响 | 第32-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 全文总结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-47页 |
| 发表的论文: | 第47-48页 |
| 会议交流的论文: | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |