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刮膜分子蒸馏过程流体流动的模拟与验证

中文摘要第1-3页
ABSTRACT第3-8页
第一章 文献综述第8-24页
   ·分子蒸馏技术概述第8-9页
   ·主要理论基础与设备第9-13页
     ·分子蒸馏基本概念第9-11页
     ·分子蒸馏主要设备类型第11-13页
   ·分子蒸馏技术的工业应用第13-14页
   ·分子蒸馏过程研究第14-20页
     ·釜式分子蒸馏器内的流体模型研究第16页
     ·降膜式分子蒸馏器内的流体模型研究第16-18页
     ·离心式分子蒸馏器内的流体模型研究第18-19页
     ·刮膜式分子蒸馏器内的流体模型研究第19-20页
   ·计算流体力学工具第20-22页
     ·概述第20-21页
     ·计算流体力学应用领域第21-22页
     ·CFD 在研究分子蒸馏过程的应用第22页
   ·课题研究内容第22-24页
第二章 冷模实验研究第24-33页
   ·流体力学实验理论基础第24-26页
     ·停留时间分布第24页
     ·停留时间分布的测定方法第24-25页
     ·计算原理第25-26页
   ·实验设备第26-27页
     ·实验设备设计第26-27页
     ·实验仪器与原料第27页
   ·实验内容第27-29页
     ·停留时间测量第27-28页
     ·停留时间曲线测量第28-29页
   ·实验结果分析第29-31页
     ·停留时间结果分析第29-30页
     ·停留时间分布结果分析第30-31页
   ·冷模实验小结第31-33页
第三章 模型介绍与分析第33-42页
   ·多相流模型第33-36页
     ·VOF 模型(The Volume of Fluid Model)第34页
     ·混合模型(The Mixture Model)第34-35页
     ·欧拉模型(The Eulerian Model)第35-36页
   ·湍流模型第36-39页
     ·标准k-ε双方程模型第37页
     ·RNG k-ε双方程模型第37-38页
     ·Realizable k-ε双方程模型第38页
     ·近壁区域处理方法第38-39页
   ·可动区域中流动问题建模第39-40页
   ·研究工具与研究对象第40-42页
第四章 模型选择与计算第42-47页
   ·设备结构分析与网格划分第42-43页
   ·数学模型选用第43-46页
     ·两种多相流模型第43-44页
     ·RNG k-ε湍流模型第44-45页
     ·增强壁面处理模型第45-46页
   ·初始设置第46-47页
第五章 模拟结果与讨论第47-62页
   ·液相分布第48-52页
     ·转速对液相分布的影响第50-51页
     ·进料速度对液相分布的影响第51-52页
   ·液相速度分布第52-56页
     ·转速对速度分布的影响第54-55页
     ·进料速率对速度分布的影响第55-56页
   ·液相中的浓度场分布第56-59页
     ·液相第二组分在流场中的分布第56-57页
     ·液相第二组分停留时间分布第57-59页
   ·液相中温度场分布第59-61页
   ·本章小结第61-62页
第六章 结论与展望第62-67页
   ·结论第62-63页
   ·展望第63-67页
参考文献第67-72页
发表论文和科研情况说明第72-73页
致谢第73页

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