| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第11-32页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 高分子材料常用的表面改性技术 | 第11-17页 |
| 1.3 激光表面改性高分子材料研究现状 | 第17-28页 |
| 1.4 研究意义、研究内容及技术路线 | 第28-32页 |
| 2 实验设备、材料及研究方法 | 第32-41页 |
| 2.1 实验设备 | 第32-34页 |
| 2.2 实验材料及激光参数设计 | 第34-36页 |
| 2.3 响应曲面分析法 | 第36-37页 |
| 2.4 测试与表征技术 | 第37-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 3 激光改性对PI表面微观形貌的影响规律及机理研究 | 第41-69页 |
| 3.1 前言 | 第41-42页 |
| 3.2 激光单脉冲刻蚀改性PI表面微观形貌的研究 | 第42-45页 |
| 3.3 紫外纳秒激光单脉冲刻蚀PI模拟和实验结果对比分析 | 第45-59页 |
| 3.4 激光扫描刻蚀工艺对PI表面微观形貌的影响 | 第59-65页 |
| 3.5 激光刻蚀PI机理分析 | 第65-68页 |
| 3.6 本章小结 | 第68-69页 |
| 4 激光改性对PI表面化学成分的影响规律 | 第69-79页 |
| 4.1 前言 | 第69-70页 |
| 4.2 激光改性对PI表面化学成分的影响 | 第70-78页 |
| 4.3 本章小结 | 第78-79页 |
| 5 激光改性对PI表面润湿性的影响规律 | 第79-91页 |
| 5.1 前言 | 第79页 |
| 5.2 激光扫描改性对PI表面润湿性的影响 | 第79-83页 |
| 5.3 PI表面润湿机理分析 | 第83-86页 |
| 5.4 激光改性对PI表面能的影响 | 第86-89页 |
| 5.5 本章小结 | 第89-91页 |
| 6 激光扫描改性对PI与铜层结合强度的影响及工艺参数优化 | 第91-112页 |
| 6.1 前言 | 第91-92页 |
| 6.2 化学沉积金属铜工艺 | 第92-93页 |
| 6.3 不同激光扫描改性对PI与铜层结合强度的影响 | 第93-95页 |
| 6.4 PI与铜层结合强度的响应曲面分析 | 第95-106页 |
| 6.5 PI表面金属铜层失效分析 | 第106-110页 |
| 6.6 本章小结 | 第110-112页 |
| 7 全文总结与展望 | 第112-115页 |
| 7.1 主要结论 | 第112-113页 |
| 7.2 研究展望 | 第113-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-127页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表的论文和申请的专利 | 第127页 |
