| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-13页 |
| 1.1.1 太阳能概述及特性 | 第10页 |
| 1.1.2 太阳能电池的概述及分类 | 第10-12页 |
| 1.1.3 研究意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.1 太阳能电池发展历史 | 第13页 |
| 1.2.2 激光刻线技术研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 本论文研究的主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 非晶硅太阳能电池理论及制备工艺 | 第15-29页 |
| 2.1 非晶硅材料的结构及光电特性 | 第15-18页 |
| 2.1.1 非晶硅材料的结构 | 第15-16页 |
| 2.1.2 非晶硅材料的光学特性 | 第16-17页 |
| 2.1.3 非晶硅材料的电学特性 | 第17-18页 |
| 2.1.4 非晶硅材料的光致衰减效应 | 第18页 |
| 2.2 太阳能电池的基本原理 | 第18-25页 |
| 2.2.1 太阳能电池的工作原理及基本结构 | 第18-20页 |
| 2.2.2 太阳能电池的测试条件及等效电路模型 | 第20-22页 |
| 2.2.3 太阳能电池的性能参数 | 第22-25页 |
| 2.3 非晶硅薄膜太阳能电池的制备工艺 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 激光刻线研究 | 第29-47页 |
| 3.1 激光刻蚀机理 | 第29-32页 |
| 3.1.1 激光原理 | 第29-30页 |
| 3.1.2 激光消融 | 第30-32页 |
| 3.1.3 激光脉冲刻线 | 第32页 |
| 3.2 最优子电池宽度研究 | 第32-35页 |
| 3.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池内部串联程序 | 第32-33页 |
| 3.2.2 激光刻线死区定义 | 第33页 |
| 3.2.3 最优子电池宽度 | 第33-35页 |
| 3.3 寄生电阻研究 | 第35-40页 |
| 3.3.1 寄生电阻的定义 | 第35页 |
| 3.3.2 寄生电阻对电池转换效率的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.3 激光刻线对电池寄生电阻的影响 | 第37-40页 |
| 3.4 激光从衬底不同面入射对刻线的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 激光参数对刻线效果的影响研究 | 第42-44页 |
| 3.5.1 激光功率(光电流)对刻线效果的影响 | 第42-43页 |
| 3.5.2 激光脉冲频率对刻线效果的影响 | 第43-44页 |
| 3.5.3 刻线速率对刻线效果的影响 | 第44页 |
| 3.6 激光扫边工艺研究 | 第44-46页 |
| 3.7 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 激光刻线工艺及设备优化 | 第47-70页 |
| 4.1 激光刻线系统 | 第47-49页 |
| 4.1.1 激光加工原理 | 第47页 |
| 4.1.2 激光刻线设备 | 第47-49页 |
| 4.2 刻线激光工艺参数优化 | 第49-59页 |
| 4.2.1 P1刻线工艺参数优化 | 第50-52页 |
| 4.2.2 P2刻线工艺参数优化 | 第52-54页 |
| 4.2.3 P3刻线工艺参数优化 | 第54-56页 |
| 4.2.4 P4激光扫边工艺参数优化 | 第56-59页 |
| 4.3 掩膜工艺与P1刻绝缘线工艺比较 | 第59-61页 |
| 4.3.1 掩膜工艺 | 第59页 |
| 4.3.2 P1刻绝缘线工艺 | 第59-60页 |
| 4.3.3 掩膜工艺与P1刻绝缘线工艺产品功率比较 | 第60-61页 |
| 4.4 负极边最后一条刻线工艺优化 | 第61-63页 |
| 4.4.1 负极边小电池对电池功率的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.2 P2、P3负极边刻线优化 | 第62-63页 |
| 4.4.3 负极边小电池有效/无效工艺验证 | 第63页 |
| 4.5 激光刻线死区优化 | 第63-69页 |
| 4.5.1 减少P1刻线线宽 | 第64-65页 |
| 4.5.2 减少P1-P2以及P1-P3线距 | 第65-68页 |
| 4.5.3 减小电池死区面积工艺验证 | 第68-69页 |
| 4.6 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 总结及展望 | 第70-72页 |
| 5.1 总结 | 第70-71页 |
| 5.2 展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |