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基于车削掩模的非球面微透镜阵列制作技术研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第一章 绪论第7-13页
    1.1 引言第7-8页
    1.2 非球面微透镜阵列制作方法概述第8-10页
    1.3 主要研究内容第10-13页
第二章 具有优良车削与刻蚀性能的掩模材料选择及其掩模层制备工艺第13-25页
    2.1 引言第13页
    2.2 具有优良车削与刻蚀性能的掩模材料选择第13-18页
        2.2.1 光刻胶材料的车削与刻蚀性能分析第13-15页
        2.2.2 光敏胶材料的车削与刻蚀性能分析第15-16页
        2.2.3 PMMA材料的车削与刻蚀性能分析第16-18页
    2.3 掩模材料的优化第18-20页
    2.4 具有优良车削与刻蚀性能的掩模层制备中出现的问题及其解决方法第20-24页
        2.4.1 掩模表面“褶皱”问题及其解决方法第20-22页
        2.4.2 影响掩模厚度均匀性的因素第22-23页
        2.4.3 影响掩模层整体厚度的因素第23-24页
    2.5 本章小结第24-25页
第三章 单点金刚石车削技术加工非球面微透镜阵列的切削轨迹规划第25-36页
    3.1 引言第25页
    3.2 单点金刚石机床设备构造第25-27页
    3.3 非球面微透镜阵列切削算法第27-32页
        3.3.1 非球面微透镜阵列建模原理第27-29页
        3.3.2 微透镜阵列切削轨迹生成算法第29-30页
        3.3.3 车刀圆弧半径补偿第30-32页
        3.3.4 车削加工非球面微透镜阵列的加工参数第32页
    3.4 加工精度的影响因素第32-35页
        3.4.1 切削参数在加工中的影响第32-34页
        3.4.2 环境因素对车削加工的影响第34-35页
    3.5 本章小结第35-36页
第四章 利用反应离子刻蚀工艺对掩模层进行图形转移第36-43页
    4.1 引言第36页
    4.2 反应离子刻蚀原理简介第36-38页
    4.3 影响反应离子刻蚀结果的工艺参数第38-42页
        4.3.1 反应气体流速变化对刻蚀结果的影响第38-39页
        4.3.2 射频功率变化对刻蚀结果的影响第39-40页
        4.3.3 反应室气压变化对刻蚀结果的影响第40页
        4.3.4 样品材料表面温度变化对刻蚀结果的影响第40-41页
        4.3.5 刻蚀后具有良好面型精度的最佳工艺参数选择第41-42页
    4.4 本章小结第42-43页
第五章 石英非球面微透镜阵列的制作与检测第43-49页
    5.1 引言第43页
    5.2 实验装置第43-44页
    5.3 石英玻璃非球面微透镜阵列的制作第44-46页
    5.4 石英玻璃非球面微透镜阵列的检测第46-48页
    5.5 本章小结第48-49页
第六章 总结与展望第49-51页
    6.1 总结第49页
    6.2 展望第49-51页
致谢第51-52页
参考文献第52-53页

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