| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 cBN 的研究进展及存在的问题 | 第10-14页 |
| 1.2.1 cBN 材料研究进展 | 第10-11页 |
| 1.2.2 cBN 掺杂研究进展 | 第11-14页 |
| 1.2.3 cBN 目前研究的难点问题 | 第14页 |
| 1.3 本论文的主要研究工作 | 第14-16页 |
| 第二章 cBN 晶体相关物理性质及表征方法 | 第16-28页 |
| 2.1 氮化硼的晶体结构 | 第16-18页 |
| 2.1.1 氮化硼材料的同分异构体 | 第16-17页 |
| 2.1.2 cBN 晶体结构 | 第17-18页 |
| 2.2 cBN 晶体相关物理性质 | 第18-24页 |
| 2.2.1 cBN 的电学性质 | 第20-22页 |
| 2.2.2 cBN 的能带结构 | 第22页 |
| 2.2.3 cBN 的光学性质 | 第22-24页 |
| 2.2.4 cBN 的热导率 | 第24页 |
| 2.3 cBN 的生长方法 | 第24-25页 |
| 2.4 cBN 的表征方法 | 第25-28页 |
| 2.4.1 X 射线光电子能谱 | 第25-26页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| 2.4.3 能量色散光谱 | 第27-28页 |
| 第三章 立方氮化硼热扩散工艺及其相关实验研究 | 第28-41页 |
| 3.1 热扩散原理 | 第28-31页 |
| 3.1.1 扩散的微观机制 | 第28-29页 |
| 3.1.2 热扩散的统计学规律 | 第29-31页 |
| 3.2 cBN 的热扩散实验及结果测量 | 第31-39页 |
| 3.2.1 扩散过程 | 第31-32页 |
| 3.2.2 掺硅 cBN 样品的 I-V 特性分析与激活能的测量结果 | 第32-33页 |
| 3.2.3 cBN 样品 XPS 光谱分析 | 第33-39页 |
| 3.3 小结 | 第39-41页 |
| 第四章 立方氮化硼离子注入工艺及其相关实验研究 | 第41-53页 |
| 4.1 离子注入原理 | 第41-43页 |
| 4.2 离子注入仿真软件 | 第43页 |
| 4.3 离子注入实验过程与测量结果 | 第43-52页 |
| 4.3.1 离子注入过程和 SRIM 模拟结果 | 第43-48页 |
| 4.3.2 XPS 光谱分析 | 第48-50页 |
| 4.3.3 SEM 观察与 EDS 光谱分析 | 第50-51页 |
| 4.3.4 Be 离子注入样品电流电压测量 | 第51-52页 |
| 4.4 小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-61页 |
| 作者简介及科研成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |