| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 贵金属在 SERS 领域研究概述 | 第10-14页 |
| 1.1.1 引言 | 第10页 |
| 1.1.2 贵金属的拉曼增强作用机理 | 第10-11页 |
| 1.1.3 贵金属的拉曼增强衬底的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2 银作为拉曼增强衬底的影响因素 | 第14-17页 |
| 1.2.1 银颗粒尺寸 | 第14-15页 |
| 1.2.2 银颗粒形状 | 第15-16页 |
| 1.2.3 银内部结构控制 | 第16页 |
| 1.2.4 银元素组成 | 第16-17页 |
| 1.3 银与石墨烯的复合 | 第17页 |
| 1.4 嵌段共聚物模板法概述 | 第17-21页 |
| 1.4.1 嵌段共聚物自组装微相分离 | 第17-18页 |
| 1.4.2 嵌段共聚物自组装在模板方面的应用 | 第18-19页 |
| 1.4.3 嵌段共聚物模板法合成表面等离子体材料的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.5 本研究工作的主要内容和意义 | 第21-23页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第23-27页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 实验中用到的分析表征手段 | 第24页 |
| 2.3 实验方案与原理 | 第24-27页 |
| 第3章 嵌段共聚物模板形貌的调控 | 第27-37页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 石墨烯衬底的制备与表征 | 第27-29页 |
| 3.3 改变溶剂及嵌段比对模板形貌的调控 | 第29-31页 |
| 3.4 溶剂熏蒸法对模板形貌的调控 | 第31-36页 |
| 3.4.1 PS(25k)-b-P4VP(7k)模板形貌的调控 | 第31-33页 |
| 3.4.2 PS(22k)-b-P4VP(22k)模板形貌的调控 | 第33-35页 |
| 3.4.3 PS(17k)-b-P4VP(49k)模板形貌的调控 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 银纳米材料形貌对 SERS 性能的影响 | 第37-47页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 银纳米材料的制备 | 第37-40页 |
| 4.2.1 使用氧等离子体刻蚀法去除模板 | 第37-38页 |
| 4.2.2 使用烧蚀法去除模板 | 第38-39页 |
| 4.2.3 使用紫外辐照法去除模板 | 第39-40页 |
| 4.3 银纳米材料 SERS 性能中增强因子的计算 | 第40-41页 |
| 4.4 银对结晶紫的拉曼增强性能 | 第41页 |
| 4.5 石墨烯与银复合材料的拉曼增强性能 | 第41-42页 |
| 4.6 银纳米材料对不同浓度的结晶紫溶液的拉曼增强作用 | 第42-44页 |
| 4.7 银纳米材料形貌对结晶紫的拉曼增强的影响 | 第44-46页 |
| 4.7.1 烧蚀法制备不同形貌的银纳米材料 | 第44-45页 |
| 4.7.2 不同结构的银纳米材料对拉曼增强性能的影响 | 第45-46页 |
| 4.8 本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 刻蚀时间对银纳米材料 SERS 性能影响的研究 | 第47-57页 |
| 5.1 引言 | 第47页 |
| 5.2 氧等离子体刻蚀参数对银纳米材料形貌的影响 | 第47-52页 |
| 5.2.1 氧等离子体刻蚀功率对银纳米材料形貌的影响 | 第47-49页 |
| 5.2.2 氧等离子体刻蚀时间对银纳米材料形貌的影响 | 第49-52页 |
| 5.3 氧等离子体刻蚀时间对银纳米材料拉曼增强性能的影响 | 第52-54页 |
| 5.3.1 纳米银薄膜拉曼增强性能的稳定性 | 第52-53页 |
| 5.3.2 氧等离子体刻蚀时间对拉曼增强性能的影响 | 第53-54页 |
| 5.4 氧等离子体刻蚀时间对拉曼增强性能影响的分析 | 第54-56页 |
| 5.4.1 石墨烯在氧等离子体刻蚀中对生成银纳米材料形貌的影响 | 第54-55页 |
| 5.4.2 刻蚀时间对形貌影响的分析 | 第55-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 个人简历 | 第69页 |
