摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 前言 | 第10-28页 |
1.1 概述 | 第10-11页 |
1.2 TiO_2的光催化反应机制与影响因素 | 第11-18页 |
1.2.1 TiO_2的基本结构与性质 | 第11-12页 |
1.2.2 半导体的能带理论及去活化过程 | 第12-13页 |
1.2.3 TiO_2的光催化机理 | 第13-15页 |
1.2.4 影响TiO_2光催化活性的因素 | 第15-17页 |
1.2.5 光致亲水性 | 第17-18页 |
1.3 TiO_2的应用 | 第18-20页 |
1.3.1 空气净化 | 第18页 |
1.3.2 污水治理 | 第18-19页 |
1.3.3 自清洁 | 第19-20页 |
1.4 TiO_2纳米材料的制备技术 | 第20-23页 |
1.4.1 TiO_2薄膜的低温制备 | 第20-22页 |
1.4.2 Sol-Gel法的基本原理 | 第22-23页 |
1.5 提升TiO_2光响应能力的途径 | 第23-26页 |
1.5.1 表面光敏化 | 第23-24页 |
1.5.2 半导体复合 | 第24-25页 |
1.5.3 金属离子掺杂 | 第25页 |
1.5.4 非金属掺杂 | 第25-26页 |
1.6 TiO_2在氟碳铝单板上的应用现状 | 第26-27页 |
1.6.1 自清洁氟碳铝单板的发展现状 | 第26页 |
1.6.2 TiO_2在氟碳铝单板中的应用 | 第26-27页 |
1.7 立题依据和实验内容 | 第27-28页 |
1.7.1 立题依据 | 第27页 |
1.7.2 实验内容 | 第27-28页 |
第2章 实验内容 | 第28-34页 |
2.1 实验方案 | 第28页 |
2.2 实验原料和设备 | 第28-29页 |
2.3 TiO_2溶胶及薄膜的制备工艺过程 | 第29-30页 |
2.3.1 TiO_2溶胶的制备 | 第29页 |
2.3.2 TiO_2粉体的制备 | 第29页 |
2.3.3 TiO_2自清洁涂膜的制备 | 第29-30页 |
2.4 表征手段 | 第30-34页 |
2.4.1 X射线衍射 | 第30页 |
2.4.2 扫描电子显微镜 | 第30页 |
2.4.3 粒度分析 | 第30-31页 |
2.4.4 傅里叶变换红外光谱 | 第31页 |
2.4.5 紫外-可见光吸收光谱 | 第31页 |
2.4.6 亲水性能 | 第31-32页 |
2.4.7 光催化活性 | 第32-34页 |
第3章 水量及pH值对低温制备TiO_2溶胶的影响及性能研究 | 第34-46页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 TiO_2溶胶及粉体的制备 | 第34-35页 |
3.3 结果分析与讨论 | 第35-45页 |
3.3.1 水的加入量对低温制备TiO_2溶胶的影响 | 第35-41页 |
3.3.2 pH变化对低温制备TiO_2溶胶的影响 | 第41-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第4章 水浴处理对低温制备TiO_2溶胶的影响及性能研究 | 第46-55页 |
4.1 引言 | 第46页 |
4.2 样品的制备方法 | 第46页 |
4.3 结果分析 | 第46-54页 |
4.3.1 水浴温度对低温制备TiO_2溶胶的影响 | 第46-50页 |
4.3.2 水浴时间对TiO_2溶胶低温制备的影响 | 第50-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
第5章 TiO_2溶胶在氟碳铝单板表面成膜性能的研究 | 第55-62页 |
5.1 前言 | 第55页 |
5.2 自清洁氟碳铝单板的制备 | 第55-56页 |
5.2.1 氟碳铝单板的预处理 | 第55页 |
5.2.2 TiO_2溶胶在氟碳铝单板的成膜 | 第55-56页 |
5.3 结果分析与讨论 | 第56-61页 |
5.3.1 TiO_2溶胶的成膜现象 | 第56-59页 |
5.3.2 PEG改性对溶胶成膜性能的影响 | 第59-60页 |
5.3.3 提拉次数对涂膜厚度的影响 | 第60-61页 |
5.4 本章小结 | 第61-62页 |
第6章 自清洁氟碳铝单板的性能表征与研究 | 第62-70页 |
6.1 前言 | 第62页 |
6.2 自清洁氟碳铝单板的制备 | 第62页 |
6.3 结果与分析 | 第62-68页 |
6.3.1 自清洁涂膜的光吸收特性研究 | 第62-63页 |
6.3.2 自清洁氟碳铝单板的亲水性研究 | 第63-67页 |
6.3.3 自清洁氟碳铝单板的光催化活性研究 | 第67-68页 |
6.4 本章小结 | 第68-70页 |
第7章 总结和展望 | 第70-72页 |
7.1 结论 | 第70-71页 |
7.2 展望 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第78页 |