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新型毫米波箔条箔片电磁散射特性研究

摘要第10-11页
ABSTRACT第11页
第一章 绪论第12-18页
    1.1 研究工作的背景和意义第12页
    1.2 研究现状及发展趋势第12-16页
        1.2.1 箔条、箔片的使用现状第12-13页
        1.2.2 箔条、箔片的研究现状第13-15页
        1.2.3 箔条、箔片技术的发展趋势第15-16页
    1.3 本文组织结构第16-18页
第二章 目标的电磁散射特性分析及矩量法求解第18-28页
    2.1 目标电磁散射特性分析第18-20页
    2.2 电场积分方程第20-21页
    2.3 矩量法及目标表面电流求解第21-25页
        2.3.1 矩量法第21-23页
        2.3.2 RWG基函数第23-24页
        2.3.3 目标表面电流的MoM求解第24-25页
    2.4 数值算例第25-27页
        2.4.1 理想导体圆柱的散射问题第25-26页
        2.4.2 理想导体平面的散射问题第26-27页
    2.5 小结第27-28页
第三章 箔条特性研究第28-44页
    3.1 引言第28页
    3.2 半波长箔条特性分析第28-36页
        3.2.1 结构与等效第28-30页
        3.2.2 散射特性第30-31页
        3.2.3 感应电流特性第31-32页
        3.2.4 结构参数的影响第32-36页
            3.2.4.1 箔条直径的影响第32-34页
            3.2.4.2 箔条长度的影响第34-36页
    3.3 半波长毫米波箔条的改进设计第36-40页
        3.3.1 毫米波箔条的特点第36页
        3.3.2 毫米波箔条的改进设计第36-40页
    3.4 箔条电磁散射特性验证研究第40-43页
    3.5 小结第43-44页
第四章 箔片特性研究第44-55页
    4.1 引言第44-45页
    4.2 箔片特性分析第45-48页
        4.2.1 箔片种类第45-46页
        4.2.2 散射特性第46-47页
        4.2.3 极化特性第47页
        4.2.4 带宽特性第47-48页
    4.3 箔片散射的影响因素第48-50页
        4.3.1 箔片面积对RCS的影响第48-49页
        4.3.2 箔片形状对RCS的影响第49-50页
    4.4 一种基于箔片单元的改进设计思路第50-54页
    4.5 小结第54-55页
第五章 箔片的优化设计第55-67页
    5.1 遗传算法第55-57页
        5.1.1 遗传算法简介第55-56页
        5.1.2 基本原理第56-57页
        5.1.3 实现流程第57页
    5.2 毫米波箔片优化设计第57-59页
    5.3 35GHz箔片设计结果第59-62页
    5.4 箔片电磁散射特性验证研究第62-66页
    5.5 小结第66-67页
第六章 结束语第67-69页
    6.1 工作总结第67页
    6.2 后续工作计划第67-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-73页
作者在学期间取得的学术成果第73页

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