| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 HfN_x薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| 1.2.1 磁控溅射法（MS） | 第11-12页 |
| 1.2.2 化学气相沉积（CVD） | 第12-13页 |
| 1.2.3 离子溅射 | 第13页 |
| 1.2.4 脉冲激光沉积（PLD） | 第13页 |
| 1.3 HfN_x薄膜的结构特点 | 第13-17页 |
| 1.4 HfN_x薄膜的光电性质和力学性质 | 第17-26页 |
| 1.4.1 反射率 | 第18-20页 |
| 1.4.2 光学常数 | 第20-21页 |
| 1.4.3 电阻率 | 第21-22页 |
| 1.4.4 硬度 | 第22-23页 |
| 1.4.5 弹性模量 | 第23-24页 |
| 1.4.6 残留应力 | 第24-25页 |
| 1.4.7 表面形貌 | 第25-26页 |
| 1.5 研究依据和主要研究内容 | 第26-29页 |
| 第二章 HfN_x薄膜的磁控溅射制备及表征方法 | 第29-33页 |
| 2.1 磁控溅射的工作原理 | 第29-30页 |
| 2.2 磁控溅射法制备 HfNx薄膜的实验条件 | 第30-31页 |
| 2.3 HfN_x薄膜的表征方法 | 第31-33页 |
| 第三章 N/Hf 原子比对 -HfN_x薄膜结构、力学和电学性质影响的研究 | 第33-47页 |
| 3.1 实验详述 | 第33页 |
| 3.2 N/Hf 原子比对 -HfN_x薄膜结构的影响 | 第33-40页 |
| 3.2.1 HfN_x薄膜不变的相结构 | 第33-35页 |
| 3.2.2 相结构的收缩和扭曲 | 第35-40页 |
| 3.3 N/Hf 原子比对 δ-HfN_x薄膜力学和电学性质的影响 | 第40-46页 |
| 3.3.1 N/Hf 原子比对 δ-HfN_x薄膜的硬度和弹性模量的影响 | 第40-43页 |
| 3.3.2 N/Hf 原子比对 δ-HfN_x薄膜的电导率的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 离子轰击对 δ-HfN_x薄膜结构、力学和电学性质的影响研究 | 第47-59页 |
| 4.1 实验详述 | 第47页 |
| 4.2 偏压对 δ-HfN_x薄膜结构的影响 | 第47-52页 |
| 4.3 偏压对 δ-HfN_x薄膜硬度和抗塑性变形能力的影响 | 第52-54页 |
| 4.4 偏压对 δ-HfN_x薄膜的电阻率的影响 | 第54-55页 |
| 4.5 偏压对 δ-HfN_x薄膜表面形貌的影响 | 第55-57页 |
| 4.6 本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-73页 |
| 硕士期间所获得科研成果 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
