摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-36页 |
1.1 烧结钕铁硼永磁材料国内外概况 | 第12-17页 |
1.1.1 烧结钕铁硼永磁材料的发展史 | 第12-13页 |
1.1.2 高性能钕铁硼永磁材料 | 第13-15页 |
1.1.3 低碳经济与高性能钕铁硼永磁材料 | 第15-17页 |
1.2 课题研究的背景与意义 | 第17-33页 |
1.2.1 钕铁硼永磁材料的缺陷与不足之处 | 第17-20页 |
1.2.2 提高和改善热稳定性的研究 | 第20-28页 |
1.2.3 提高钕铁硼磁体耐蚀性的研究 | 第28-33页 |
1.3 本论文研究内容 | 第33-36页 |
第2章 钕铁硼磁体表面膜层的制备、热扩渗及表征方法 | 第36-46页 |
2.1 样品原块的制作及性能 | 第36页 |
2.2 样品表面膜层的制备 | 第36-39页 |
2.2.1 磁控溅射镀膜系统 | 第36-38页 |
2.2.2 膜层的制备 | 第38-39页 |
2.3 样品的真空热处理 | 第39-41页 |
2.4 磁性能测量 | 第41页 |
2.5 耐腐蚀性的表征 | 第41-44页 |
2.5.1 极化曲线的测量 | 第42-43页 |
2.5.2 盐雾试验 | 第43页 |
2.5.3 PCT试验 | 第43-44页 |
2.6 微观组织、结构和成分的表征 | 第44-45页 |
2.7 本章小结 | 第45-46页 |
第3章 钕铁硼磁体表面镀铝薄膜的性能研究 | 第46-63页 |
3.1 实验方法 | 第46-47页 |
3.2 表征方法及测试仪器 | 第47页 |
3.3 结果与讨论 | 第47-62页 |
3.3.1 镀层的形貌与微观组织 | 第47-48页 |
3.3.2 热处理对Al薄膜微观组织和样品成分的影响 | 第48-60页 |
3.3.2.1 热处理温度与微观组织 | 第48-54页 |
3.3.2.2 沉积时间与微观组织 | 第54-58页 |
3.3.2.3 热处理对样品表面物相的影响 | 第58-60页 |
3.3.3 耐蚀性 | 第60-61页 |
3.3.3.1 薄膜厚度对耐蚀性的影响 | 第60页 |
3.3.3.2 热处理温度对耐蚀性的影响 | 第60-61页 |
3.3.4 动电位极化曲线 | 第61-62页 |
3.4 本章小结 | 第62-63页 |
第4章 钕铁硼磁体表面镀镝铝合金薄膜的性能研究 | 第63-82页 |
4.1 实验方法 | 第63-64页 |
4.2 表征方法及测试仪器 | 第64页 |
4.3 结果与讨论 | 第64-80页 |
4.3.1 DyAl合金薄膜的成分、形貌及结构 | 第64-67页 |
4.3.2 热扩渗工艺前后磁体的磁性能及耐热性 | 第67-69页 |
4.3.3 热扩渗工艺前后微组织结构 | 第69-74页 |
4.3.4 热扩渗工艺前后耐蚀性 | 第74-76页 |
4.3.4.1 盐雾试验 | 第74页 |
4.3.4.2 PCT失重实验 | 第74-75页 |
4.3.4.3 动态极化曲线 | 第75-76页 |
4.3.5 DyAl扩散深度 | 第76-78页 |
4.3.6 DyAl扩散模型 | 第78-80页 |
4.4 本章小结 | 第80-82页 |
第5章 真空退火提高薄型磁体性能的研究 | 第82-95页 |
5.1 实验方法 | 第82-83页 |
5.2 结果与讨论 | 第83-93页 |
5.2.1 退火温度对磁体磁性能的影响 | 第83-87页 |
5.2.2 退火温度对磁体微组织结构的影响 | 第87-92页 |
5.2.3 X-射线衍射测定在不同温度退火下磁体亚晶粒尺寸变化 | 第92-93页 |
5.3 本章小结 | 第93-95页 |
第6章 结论 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-105页 |
致谢 | 第105-106页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第106-108页 |
个人简历 | 第108页 |