| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-39页 |
| 1.1 石墨烯简介 | 第11-21页 |
| 1.1.1 石墨烯结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 石墨烯性能 | 第12-14页 |
| 1.1.3 石墨烯制备方法 | 第14-18页 |
| 1.1.4 石墨烯的表征 | 第18-20页 |
| 1.1.5 石墨烯的改性 | 第20-21页 |
| 1.2 聚乙烯醇（PVA）简介 | 第21-23页 |
| 1.2.1 聚乙烯醇（PVA）的性质与应用 | 第22-23页 |
| 1.3 聚偏氟乙烯（PVDF）简介 | 第23-25页 |
| 1.4 电介质材料概述 | 第25-37页 |
| 1.4.1 电介质简介 | 第25-26页 |
| 1.4.2 电介质极化类型 | 第26-28页 |
| 1.4.3 电介质表征参数 | 第28-29页 |
| 1.4.4 聚合物电介质复合材料 | 第29-37页 |
| 1.5 论文研究意义及内容 | 第37-39页 |
| 第2章 实验材料及表征方法 | 第39-42页 |
| 2.1 实验材料 | 第39-40页 |
| 2.2 表征方法 | 第40-42页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD） | 第40页 |
| 2.2.2 紫外光谱（UV） | 第40-41页 |
| 2.2.3 红外光谱（FT-IR） | 第41页 |
| 2.2.4 原子力显微镜（AFM） | 第41页 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜（SEM） | 第41-42页 |
| 第3章 石墨烯制备、氧化石墨烯结构形貌分析以及PVDF晶型结构分析 | 第42-54页 |
| 3.1 材料制备 | 第42-43页 |
| 3.1.1 氧化石墨烯的制备 | 第42-43页 |
| 3.1.2 还原石墨烯的制备 | 第43页 |
| 3.2 GO和RGO晶体结构分析 | 第43-45页 |
| 3.3 GO和RGO光谱学分析表征 | 第45-47页 |
| 3.3.1 UV光谱分析 | 第45-46页 |
| 3.3.2 FT-IR光谱分析 | 第46-47页 |
| 3.4 GO形貌分析 | 第47-50页 |
| 3.4.1 AFM分析GO形貌与厚度 | 第47-48页 |
| 3.4.2 SEM分析GO表面形貌 | 第48-50页 |
| 3.5 聚偏氟乙烯晶体结构分析 | 第50-52页 |
| 3.5.1 XRD分析不同温度下聚偏氟乙烯的晶相 | 第50-51页 |
| 3.5.2 FT-IR分析不同温度下聚偏氟乙烯的晶相 | 第51-52页 |
| 3.6 小结 | 第52-54页 |
| 第4章 石墨烯/聚乙烯醇/聚偏氟乙烯基纳米复合薄膜的形貌结构和介电性能研究 | 第54-69页 |
| 4.1 复合材料制备 | 第55-56页 |
| 4.2 复合粒子表征分析 | 第56-58页 |
| 4.2.1 GO/PVA复合粒子红外光谱分析 | 第56-57页 |
| 4.2.2 GO/PVA复合粒子的形貌 | 第57-58页 |
| 4.3 GO/PVDF、GO/PVA/PVDF在溶剂中分散性 | 第58页 |
| 4.4 RGO/PVA/PVDF复合薄膜表征分析 | 第58-68页 |
| 4.4.1 RGO/PVA/PVDF复合薄膜XRD分析 | 第58-60页 |
| 4.4.2 RGO/PVA/PVDF复合薄膜红外光谱分析 | 第60-61页 |
| 4.4.3 荧光显微镜分析RGO/PVA/PVDF复合薄膜形貌 | 第61-62页 |
| 4.4.4 SEM显微镜分析RGO/PVA/PVDF复合薄膜形貌 | 第62-63页 |
| 4.4.5 RGO/PVA/PVDF复合薄膜介电性能分析 | 第63-67页 |
| 4.4.6 RGO/PVA/PVDF复合薄膜导电性能分析 | 第67-68页 |
| 4.5 小结 | 第68-69页 |
| 第5章 总结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-80页 |
| 作者简介 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
