摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 课题研究背景及研究意义 | 第9-10页 |
1.2 国内外研究现状 | 第10-16页 |
1.2.1 碱刻蚀制备单晶硅表面微结构 | 第10-12页 |
1.2.2 光刻及纳米压印技术制备单晶硅表面微结构 | 第12-14页 |
1.2.3 介质微球辅助激光加工制备晶硅表面微结构 | 第14-16页 |
1.3 研究内容及意义 | 第16-19页 |
第2章 实验材料、方法和原理 | 第19-25页 |
2.1 实验材料及样品预处理 | 第19页 |
2.2 工艺方法及实验测试设备 | 第19-21页 |
2.2.1 工艺方法 | 第19-20页 |
2.2.2 实验及测试设备 | 第20-21页 |
2.3 实验原理 | 第21-24页 |
2.3.1 介电微球辅助激光微纳制造原理 | 第21-23页 |
2.3.2 单晶硅表面各向异性刻蚀机理 | 第23-24页 |
本章小结 | 第24-25页 |
第3章 微球辅助准分子激光-化学法制备单晶硅表面微结构 | 第25-37页 |
3.1 准分子激光辐照系统及参数预设 | 第25-26页 |
3.2 微球尺寸,激光能量密度及碱刻蚀时间对结构成型的影响 | 第26-31页 |
3.2.1 微球尺寸对结构成型的影响 | 第26-28页 |
3.2.2 激光能量密度对结构成型的影响 | 第28-30页 |
3.2.3 刻蚀时间对结构成型的影响 | 第30-31页 |
3.3 单晶硅表面微结构成型机理的模拟分析 | 第31-35页 |
3.4 单晶硅表面光学性能分析 | 第35页 |
本章小结 | 第35-37页 |
第4章 微球辅助皮秒激光-化学法制备单晶硅表面微结构 | 第37-51页 |
4.1 皮秒激光工艺参数预设及微制造系统 | 第37-38页 |
4.2 皮秒激光制备单晶硅表面微结构 | 第38-40页 |
4.3 皮秒激光制备单晶硅功能性表面拉曼增强(SERS)衬底性质的研究 | 第40-50页 |
4.3.1 3D SERS衬底制备 | 第40-41页 |
4.3.2 微球直径,激光功率和刻蚀时间对衬底SERS效应的影响 | 第41-46页 |
4.3.3 SERS衬底灵敏性和均匀性 | 第46-48页 |
4.3.4 单晶硅SERS衬底拉曼增强机理的模拟分析 | 第48-50页 |
本章小结 | 第50-51页 |
结论 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-57页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |