湿焙回转炉控制系统设计及其关键技术研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
1.1 课题背景 | 第8页 |
1.2 课题意义 | 第8-9页 |
1.3 国内外研究的现状 | 第9-11页 |
1.4 本文主要的研究工作 | 第11页 |
1.5 本章小结 | 第11-14页 |
第二章 湿焙回转炉介绍及控制系统总体设计 | 第14-30页 |
2.1 湿焙回转炉工作过程 | 第14-17页 |
2.1.1 湿焙回转炉特点 | 第14-16页 |
2.1.2 生产工艺 | 第16页 |
2.1.3 被控过程I/O点 | 第16-17页 |
2.2 湿焙回转炉PLC控制简介 | 第17-26页 |
2.2.1 PLC的产生与发展 | 第17-18页 |
2.2.2 PLC的定义、分类及特点 | 第18-19页 |
2.2.3 PLC的功能与应用范围 | 第19-21页 |
2.2.4 PLC的结构与工作过程 | 第21-23页 |
2.2.5 PLC的发展趋势与总结 | 第23-25页 |
2.2.6 湿焙回转炉自动控制系统的PLC选型 | 第25-26页 |
2.3 湿焙回转炉控制系统总体设计 | 第26-28页 |
2.3.1 湿焙回转炉控制技术的选用 | 第26-27页 |
2.3.2 湿焙回转炉控制系统的基本构成 | 第27-28页 |
2.4 本章小结 | 第28-30页 |
第三章 湿焙系统通信网络设计 | 第30-44页 |
3.1 控制器和模块通信 | 第31-32页 |
3.1.1 EM231模块采集过程 | 第31页 |
3.1.2 EM232模块输出过程 | 第31-32页 |
3.2 PLC控制器通信 | 第32-33页 |
3.3 PLC与触摸屏通信 | 第33-34页 |
3.4 PLC与无线网管通信 | 第34-38页 |
3.4.1 物料温度 | 第34页 |
3.4.2 无线网管通讯 | 第34-37页 |
3.4.3 控制器采集物料温度 | 第37-38页 |
3.5 PLC与上位机通信 | 第38-43页 |
3.5.1 现场数据源 | 第38-39页 |
3.5.2 OPC服务器 | 第39-40页 |
3.5.3 OPC客户端接口程序开发 | 第40-43页 |
3.5.4 客户端测试及应用 | 第43页 |
3.6 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 湿焙系统温度控制算法研究 | 第44-52页 |
4.1 湿焙温控方案 | 第44-46页 |
4.1.1 控制任务 | 第44页 |
4.1.2 湿焙温控工艺 | 第44-45页 |
4.1.3 温度的控制原理 | 第45页 |
4.1.4 温控系统的模型 | 第45-46页 |
4.2 温度的动态矩阵控制策略 | 第46-49页 |
4.2.1 动态矩阵控制算法(DMC) | 第46-47页 |
4.2.2 预测模型 | 第47-48页 |
4.2.3 滚动优化 | 第48页 |
4.2.4 反馈矫正 | 第48页 |
4.2.5 DMC控制器设计 | 第48-49页 |
4.3 DMC-PID温度控制策略仿真 | 第49-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-52页 |
第五章 湿焙监控系统应用效果 | 第52-60页 |
5.1 湿焙回转炉运行监控 | 第52-56页 |
5.2 系统特点 | 第56-57页 |
5.3 应用效果 | 第57-58页 |
5.4 本章小结 | 第58-60页 |
第六章 总结与展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
攻读硕士期间的研究成果 | 第66-68页 |
致谢 | 第68页 |