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湿焙回转炉控制系统设计及其关键技术研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第8-14页
    1.1 课题背景第8页
    1.2 课题意义第8-9页
    1.3 国内外研究的现状第9-11页
    1.4 本文主要的研究工作第11页
    1.5 本章小结第11-14页
第二章 湿焙回转炉介绍及控制系统总体设计第14-30页
    2.1 湿焙回转炉工作过程第14-17页
        2.1.1 湿焙回转炉特点第14-16页
        2.1.2 生产工艺第16页
        2.1.3 被控过程I/O点第16-17页
    2.2 湿焙回转炉PLC控制简介第17-26页
        2.2.1 PLC的产生与发展第17-18页
        2.2.2 PLC的定义、分类及特点第18-19页
        2.2.3 PLC的功能与应用范围第19-21页
        2.2.4 PLC的结构与工作过程第21-23页
        2.2.5 PLC的发展趋势与总结第23-25页
        2.2.6 湿焙回转炉自动控制系统的PLC选型第25-26页
    2.3 湿焙回转炉控制系统总体设计第26-28页
        2.3.1 湿焙回转炉控制技术的选用第26-27页
        2.3.2 湿焙回转炉控制系统的基本构成第27-28页
    2.4 本章小结第28-30页
第三章 湿焙系统通信网络设计第30-44页
    3.1 控制器和模块通信第31-32页
        3.1.1 EM231模块采集过程第31页
        3.1.2 EM232模块输出过程第31-32页
    3.2 PLC控制器通信第32-33页
    3.3 PLC与触摸屏通信第33-34页
    3.4 PLC与无线网管通信第34-38页
        3.4.1 物料温度第34页
        3.4.2 无线网管通讯第34-37页
        3.4.3 控制器采集物料温度第37-38页
    3.5 PLC与上位机通信第38-43页
        3.5.1 现场数据源第38-39页
        3.5.2 OPC服务器第39-40页
        3.5.3 OPC客户端接口程序开发第40-43页
        3.5.4 客户端测试及应用第43页
    3.6 本章小结第43-44页
第四章 湿焙系统温度控制算法研究第44-52页
    4.1 湿焙温控方案第44-46页
        4.1.1 控制任务第44页
        4.1.2 湿焙温控工艺第44-45页
        4.1.3 温度的控制原理第45页
        4.1.4 温控系统的模型第45-46页
    4.2 温度的动态矩阵控制策略第46-49页
        4.2.1 动态矩阵控制算法(DMC)第46-47页
        4.2.2 预测模型第47-48页
        4.2.3 滚动优化第48页
        4.2.4 反馈矫正第48页
        4.2.5 DMC控制器设计第48-49页
    4.3 DMC-PID温度控制策略仿真第49-51页
    4.4 本章小结第51-52页
第五章 湿焙监控系统应用效果第52-60页
    5.1 湿焙回转炉运行监控第52-56页
    5.2 系统特点第56-57页
    5.3 应用效果第57-58页
    5.4 本章小结第58-60页
第六章 总结与展望第60-62页
参考文献第62-66页
攻读硕士期间的研究成果第66-68页
致谢第68页

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