席夫碱键合硅胶富集测定痕量汞的研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
1 前言 | 第8-22页 |
·硅胶材料概述 | 第8-10页 |
·硅胶简介 | 第8页 |
·硅胶的组成和结构 | 第8-9页 |
·硅胶基质材料的分类 | 第9-10页 |
·硅胶作为载体的优点 | 第10-11页 |
·硅胶改性 | 第11页 |
·硅胶的化学改性方法 | 第11-14页 |
·有机硅烷偶联剂改性法 | 第11-13页 |
·溶胶-凝胶改性法 | 第13-14页 |
·其他改性法 | 第14页 |
·化学键合硅胶的特点 | 第14页 |
·化学键合硅胶在痕量金属分离富集中的应用 | 第14-15页 |
·席夫碱概况 | 第15-16页 |
·汞及其分析方法 | 第16-20页 |
·汞的性质及来源 | 第16页 |
·汞的毒性及危害 | 第16-17页 |
·汞的限量标准 | 第17页 |
·汞的分析方法 | 第17-20页 |
·本论文的意义和主要研究内容 | 第20-22页 |
2 材料与方法 | 第22-30页 |
·材料与试剂 | 第22页 |
·主要实验仪器及设备 | 第22-23页 |
·材料的处理与试剂的配制 | 第23-24页 |
·材料的处理 | 第23页 |
·试剂的配制 | 第23-24页 |
·实验方法 | 第24-30页 |
·席夫碱键合硅球的合成 | 第24页 |
·合成产物的红外光潜表征 | 第24-25页 |
·富集柱的制备 | 第25页 |
·热力学模型拟合分析 | 第25-26页 |
·吸附动力学研究 | 第26-27页 |
·预富集固相萃取程序 | 第27-28页 |
·样品的处理与测定 | 第28页 |
·原子荧光实验方法 | 第28-30页 |
3 结果与讨论 | 第30-45页 |
·席夫碱键合硅胶的合成 | 第30-32页 |
·合成原理 | 第30页 |
·合成条件探讨及产物的表征 | 第30-32页 |
·席夫碱键合硅胶对汞吸附的选择性 | 第32-33页 |
·pH值对汞吸附率的影响 | 第33-34页 |
·席夫碱键合硅胶对汞的动力学实验 | 第34-35页 |
·吸附等温线模型拟合结果及分析 | 第35-37页 |
·吸附动力学模型拟合结果及分析 | 第37-40页 |
·上样速率的影响 | 第40页 |
·洗脱剂对吸附效果的影响 | 第40页 |
·体系抗干扰能力研究 | 第40-41页 |
·分析特征量 | 第41-43页 |
·标准曲线与检出限 | 第41-42页 |
·方法的精密度 | 第42页 |
·方法的准确度 | 第42-43页 |
·方法的应用 | 第43-45页 |
·样品前处理 | 第43页 |
·样品的测定与添加回收 | 第43-45页 |
4 结论 | 第45-46页 |
5 展望 | 第46-47页 |
6 参考文献 | 第47-55页 |
7 攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第55-56页 |
8 致谢 | 第56页 |