| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-26页 |
| ·自旋电子学 | 第8-11页 |
| ·自旋极化 | 第8-9页 |
| ·自旋注入 | 第9页 |
| ·稀磁半导体 | 第9-11页 |
| ·3d 过渡族金属氮化物 | 第11-20页 |
| ·TiN 的结构、性质及用途 | 第11-13页 |
| ·CrN 的电输运性质的研究现状 | 第13-16页 |
| ·Ti_(1-x)Cr_xN 的磁电性质的研究现状 | 第16-20页 |
| ·稀土氮化物 | 第20-24页 |
| ·稀土氮化物的研究现状 | 第20-21页 |
| ·GdN 的研究现状 | 第21-24页 |
| ·本论文的工作 | 第24-26页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征与物性测量 | 第26-33页 |
| ·对向靶直流磁控溅射原理 | 第26-27页 |
| ·样品的制备过程 | 第27-28页 |
| ·样品的结构表征和物性测量 | 第28-33页 |
| ·表面形貌测量仪(台阶仪) | 第28-29页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第29页 |
| ·能量色散 X 射线光谱(EDX) | 第29-30页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第30页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第30-31页 |
| ·磁性测量系统(MPMS) | 第31页 |
| ·物理性质测量系统(PPMS) | 第31-33页 |
| 第三章 外延和多晶 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的结构和性质 | 第33-55页 |
| ·外延 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的结构和性质 | 第33-44页 |
| ·外延 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的结构 | 第33-36页 |
| ·外延 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的磁学性质 | 第36-37页 |
| ·外延 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的电输运特性 | 第37-44页 |
| ·多晶 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的结构和性质 | 第44-53页 |
| ·多晶 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的结构 | 第45-46页 |
| ·多晶 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的磁学性质 | 第46-47页 |
| ·多晶 Ti_(1-x)Cr_xN薄膜的电输运特性 | 第47-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 CrN_x和 GdN_x薄膜的结构和性质 | 第55-73页 |
| ·CrN_x薄膜的结构和性质 | 第55-62页 |
| ·CrN_x薄膜的结构 | 第55-59页 |
| ·CrN_x薄膜的电输运性质 | 第59-62页 |
| ·GdN_x薄膜的结构和性质 | 第62-72页 |
| ·GdN_x薄膜的结构 | 第62-63页 |
| ·GdN_x薄膜的磁学性质 | 第63-66页 |
| ·GdN_x薄膜的电输运特性 | 第66-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 总结 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-84页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文和申请专利情况 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
