二硼化锆靶材及薄膜制备技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·ZrB_2的基本性质 | 第8-10页 |
| ·国内外研究进展 | 第10-13页 |
| ·ZrB_2陶瓷的研究现状 | 第10-11页 |
| ·ZrB_2薄膜的研究现状 | 第11-13页 |
| ·ZrB_2的溅射沉积技术 | 第11-12页 |
| ·ZrB_2的化学气相沉积技术 | 第12页 |
| ·ZrB_2的其它沉积技术 | 第12-13页 |
| ·本研究的目的、意义及主要内容 | 第13页 |
| ·本章小结 | 第13-15页 |
| 第二章 二硼化锆靶材的制备及表征 | 第15-31页 |
| ·ZrB_2粉体的表征 | 第15-17页 |
| ·常压烧结 | 第17-19页 |
| ·热压烧结 | 第19-25页 |
| ·未处理ZrB_2粉体的烧结 | 第20-21页 |
| ·球磨ZrB_2粉体的烧结 | 第21-23页 |
| ·添加烧结助剂ZrB_2粉体的烧结 | 第23-24页 |
| ·球磨且添加烧结助剂的ZrB_2粉体的烧结 | 第24-25页 |
| ·放电等离子体烧结 | 第25-28页 |
| ·磁控溅射靶的制备 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射靶靶体的设计加工 | 第28-29页 |
| ·靶片结构设计 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 二硼化锆薄膜的制备及表征 | 第31-46页 |
| ·镀膜工装设计 | 第31页 |
| ·靶面剩磁调节 | 第31-32页 |
| ·ZrB_2薄膜的制备工艺 | 第32-33页 |
| ·ZrB_2靶片的溅射特性对比 | 第33-34页 |
| ·ZrB_2薄膜的宏观形貌 | 第34-35页 |
| ·ZrB_2薄膜的微观形貌 | 第35-37页 |
| ·ZrB_2薄膜的物相及成分分析 | 第37-40页 |
| ·ZrB_2薄膜的硬度与模量测试 | 第40-41页 |
| ·膜基结合性能 | 第41-45页 |
| ·热循环实验 | 第41-42页 |
| ·拉伸实验 | 第42-43页 |
| ·划痕实验 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 结论与展望 | 第46-48页 |
| ·结论 | 第46页 |
| ·展望 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 附录 | 第52页 |
