| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-29页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第13-17页 |
| ·衍射光栅制作简史 | 第13-15页 |
| ·全息光栅制作的研究意义 | 第15-17页 |
| ·全息光栅制作工艺国内外研究现状及趋势 | 第17-26页 |
| ·全息光栅制作工艺路线 | 第17-20页 |
| ·全息光栅曝光光学系统及槽形参数控制的研究现状 | 第20-24页 |
| ·光栅曝光光学系统及槽形参数控制的研究现状分析 | 第24-26页 |
| ·主要研究内容和结构安排 | 第26-29页 |
| ·论文主要研究内容 | 第26页 |
| ·论文结构安排 | 第26-29页 |
| 第2章 空间滤波器孔径与激光束腰关系的选择方法 | 第29-43页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·确定针孔半径与光束束腰半径比值下限 | 第30-36页 |
| ·理论基础 | 第31-33页 |
| ·以滤波光束相位变化确定针孔半径与光束束腰半径比值下限 | 第33-36页 |
| ·确定针孔半径与光束束腰半径比值上限 | 第36-40页 |
| ·激光光束传播的理论基础 | 第36-38页 |
| ·以高斯光束参数变化确定针孔半径与光束束腰半径比值上限 | 第38-40页 |
| ·滤波光束的模拟与分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 洛艾镜干涉曝光系统的约束条件 | 第43-57页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·曝光光束偏振方向引起干涉条纹对比度变化 | 第44-48页 |
| ·两束 TE 波相干涉 | 第44-45页 |
| ·两束 TM 波相干涉 | 第45-48页 |
| ·洛艾镜曝光系统结构与光栅面积的关系 | 第48-51页 |
| ·制作平面全息光栅的洛艾镜曝光系统 | 第48-49页 |
| ·洛艾镜长度对光栅曝光面积的影响 | 第49-51页 |
| ·条纹对比度变化与光栅面积的关系 | 第51-54页 |
| ·实例分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 平面全息光栅刻线密度的倍频式调整方法 | 第57-67页 |
| ·引言 | 第57-58页 |
| ·精确调整全息光栅刻线密度的基本原理 | 第58-62页 |
| ·平面全息光栅刻线密度的倍频式调整原理 | 第58-60页 |
| ·莫尔条纹的形成及相位表达式 | 第60-62页 |
| ·光栅刻线密度倍频式调整方法的调整精度分析 | 第62-65页 |
| ·基准光栅刻线密度对曝光光路调整结构的影响 | 第62-63页 |
| ·基准光栅宽度对光栅刻线密度的影响 | 第63-65页 |
| ·实验结果及分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 曝光光学系统中的分光器件选择 | 第67-79页 |
| ·引言 | 第67-68页 |
| ·不同分光器件对相干光夹角的变化影响 | 第68-71页 |
| ·平面全息光栅制作原理及光栅空间相位差表达式 | 第68-69页 |
| ·不同分光器件的分光原理 | 第69-70页 |
| ·分光光束与条纹干涉角的变化关系 | 第70-71页 |
| ·不同分光器件时由于光束调整误差引起的条纹空间相位差比较 | 第71-76页 |
| ·棱镜和光栅分光时周期计算 | 第71-72页 |
| ·不同分光器件曝光系统稳定性比较 | 第72-75页 |
| ·分光光栅曝光系统稳定性较差时的衍射角变化 | 第75-76页 |
| ·分光光栅的消色差使用 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第6章 曝光系统轴向调节误差对光栅衍射波像差的影响 | 第79-95页 |
| ·引言 | 第79-80页 |
| ·曝光光学系统中光栅干涉条纹波像差的计算 | 第80-84页 |
| ·高斯光束通过透镜后的相位计算 | 第80-82页 |
| ·高斯光束在基底处的坐标变换 | 第82-84页 |
| ·光栅曝光系统轴向调节误差与光栅衍射波像差的关系 | 第84-92页 |
| ·曝光光学系统中离焦量与光栅波像差的关系 | 第85-88页 |
| ·激光束腰半径变化对光栅干涉条纹波像差的影响 | 第88-90页 |
| ·准直系统与基底距离变化对光栅干涉条纹波像差的影响 | 第90-92页 |
| ·实验验证与分析 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第7章 光栅掩模参数的控制方法研究 | 第95-127页 |
| ·引言 | 第95-97页 |
| ·传统光栅掩模槽形形成模型 | 第97-103页 |
| ·光栅掩模槽形的几何参量及其意义 | 第97-98页 |
| ·基于 Dill 理论的数值拟合光栅掩模槽形形成模型 | 第98-101页 |
| ·适用于曝光显影实时监测的槽形形成理论模型 | 第101-103页 |
| ·曝光条件变化对光栅掩模占宽比的影响 | 第103-114页 |
| ·光栅掩模槽深的控制 | 第103-105页 |
| ·光栅掩模槽形二元模型形成的理论基础 | 第105-107页 |
| ·光栅掩模槽形的二元模型及其理论分析 | 第107-112页 |
| ·实验验证 | 第112-114页 |
| ·光刻胶特性曲线变化对掩模槽形形状的影响 | 第114-126页 |
| ·光刻胶特性曲线的区间划分 | 第114-116页 |
| ·光刻胶特性曲线不同区间与掩模槽形的关系 | 第116-117页 |
| ·光栅掩模槽形随光刻胶特性曲线演化规律的具体讨论 | 第117-120页 |
| ·非对称曝光对光栅掩模槽形的影响 | 第120-123页 |
| ·实验验证 | 第123-126页 |
| ·本章小结 | 第126-127页 |
| 第8章 总结与展望 | 第127-129页 |
| ·论文工作总结 | 第127-128页 |
| ·展望 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-137页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第137-138页 |
| 指导教师及作者简介 | 第138-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
