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Co/Cu多层膜层间耦合作用的调节

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
引言第8-9页
第一章 文献综述第9-19页
   ·巨磁电阻的类型第9-11页
   ·多层膜的巨磁电阻第11-15页
   ·多层膜的研究发展及应用进展第15-17页
 参考文献第17-19页
第二章 样品的制备和分析测试原理第19-28页
   ·薄膜样品的制备第19-21页
     ·磁控溅射原理第19-21页
     ·薄膜样品的制备第21页
   ·薄膜的分析测试原理第21-27页
     ·磁性能测量第21-23页
     ·磁电阻效应的四探针法测量第23-25页
     ·薄膜厚度的测量第25页
     ·基片洗涤方法第25-26页
     ·本实验采用的实验设备第26-27页
 参考文献第27-28页
第三章 对Co/Cu 多层膜体系的研究第28-43页
   ·薄膜微结构对Co/Cu 多层膜磁电阻和层间耦合作用的影响第28-32页
     ·引言第28页
     ·实验过程第28-29页
     ·实验结果与分析第29-32页
     ·小结第32页
   ·[Co/Cu]_(30)多层膜的隔离层中掺入Co 对层间耦合作用的影响第32-43页
     ·引言第32-33页
     ·实验设计与方法第33-34页
     ·成份确定第34页
     ·样品制备第34-35页
     ·实验结果和讨论第35-42页
     ·小结第42-43页
总结第43-44页
参考文献第44-46页
硕士期间发表论文第46-47页
致谢第47-48页

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