摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
引言 | 第8-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-19页 |
·巨磁电阻的类型 | 第9-11页 |
·多层膜的巨磁电阻 | 第11-15页 |
·多层膜的研究发展及应用进展 | 第15-17页 |
参考文献 | 第17-19页 |
第二章 样品的制备和分析测试原理 | 第19-28页 |
·薄膜样品的制备 | 第19-21页 |
·磁控溅射原理 | 第19-21页 |
·薄膜样品的制备 | 第21页 |
·薄膜的分析测试原理 | 第21-27页 |
·磁性能测量 | 第21-23页 |
·磁电阻效应的四探针法测量 | 第23-25页 |
·薄膜厚度的测量 | 第25页 |
·基片洗涤方法 | 第25-26页 |
·本实验采用的实验设备 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-28页 |
第三章 对Co/Cu 多层膜体系的研究 | 第28-43页 |
·薄膜微结构对Co/Cu 多层膜磁电阻和层间耦合作用的影响 | 第28-32页 |
·引言 | 第28页 |
·实验过程 | 第28-29页 |
·实验结果与分析 | 第29-32页 |
·小结 | 第32页 |
·[Co/Cu]_(30)多层膜的隔离层中掺入Co 对层间耦合作用的影响 | 第32-43页 |
·引言 | 第32-33页 |
·实验设计与方法 | 第33-34页 |
·成份确定 | 第34页 |
·样品制备 | 第34-35页 |
·实验结果和讨论 | 第35-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
总结 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-46页 |
硕士期间发表论文 | 第46-47页 |
致谢 | 第47-48页 |