磁控溅射法制备硅基LiNbO3光波导薄膜材料研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-14页 |
| ·LiNbO_3薄膜研究进展 | 第9-12页 |
| ·本论文的工作 | 第12-13页 |
| ·本论文的章节安排 | 第13-14页 |
| 第二章 理论基础 | 第14-31页 |
| ·LiNbO_3的晶体结构 | 第14-15页 |
| ·LiNbO_3的性质及性能 | 第15-19页 |
| ·电光效应 | 第17页 |
| ·非线性光学效应 | 第17-18页 |
| ·压电效应 | 第18-19页 |
| ·光波导的理论 | 第19-29页 |
| ·平面光波导的基本理论 | 第20-23页 |
| ·矩形光波导理论 | 第23-28页 |
| ·光波导的损耗 | 第28-29页 |
| ·LiNbO_3在光波导领域的应用 | 第29-31页 |
| 第三章 衬底的选择与缓冲层的制备 | 第31-38页 |
| ·衬底的选择 | 第31-33页 |
| ·制备LiNbO_3薄膜常用的衬底 | 第31-32页 |
| ·选择衬底材料需要考虑的几个因素 | 第32-33页 |
| ·SiO_2缓冲层的制备 | 第33-34页 |
| ·Si_3N_4缓冲层的制备 | 第34-38页 |
| ·实验条件 | 第35页 |
| ·实验结果分析 | 第35-37页 |
| ·实验结论 | 第37-38页 |
| 第四章 LiNbO_3薄膜的制备技术 | 第38-47页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第38-39页 |
| ·化学气相沉积法 | 第39页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第39-40页 |
| ·射频磁控溅射沉积法 | 第40-47页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第40页 |
| ·辉光放电 | 第40-41页 |
| ·溅射率 | 第41-42页 |
| ·溅射机理 | 第42-43页 |
| ·射频（RF）磁控溅射镀膜机理 | 第43-45页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第45-47页 |
| 第五章 实验设备和实验过程 | 第47-54页 |
| ·磁控溅射实验系统简介 | 第47-49页 |
| ·LiNbO_3薄膜的生长工艺 | 第49-54页 |
| ·实验流程 | 第49-50页 |
| ·实验条件的设计 | 第50-51页 |
| ·分析测试方法 | 第51-54页 |
| 第六章 结果讨论 | 第54-72页 |
| ·薄膜的C 轴择优取向 | 第54-59页 |
| ·取向度的计算 | 第54-56页 |
| ·数据的直观分析 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| ·薄膜的晶粒尺寸 | 第59-64页 |
| ·计算晶粒尺寸 | 第61页 |
| ·数据分析 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| ·薄膜的物相（组分） | 第64-68页 |
| ·不同条件下的物相 | 第64-67页 |
| ·缺锂相产生的原因 | 第67-68页 |
| ·小结 | 第68页 |
| ·快速退火改进薄膜质量 | 第68-69页 |
| ·优化条件及其表面形貌图 | 第69-72页 |
| 第七章 总结 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 在学期间的研究成果 | 第78页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第78-79页 |
