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硅衬底ZnO/GaN半导体材料生长及LED器件寿命研究

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第一章 绪论第11-36页
   ·引言第11-12页
   ·GaN性能概述第12-16页
     ·GaN的晶体结构第12-14页
     ·GaN的化学性质第14-15页
     ·GaN的光学性质第15-16页
     ·GaN的电学性质第16页
   ·ZnO性能概述第16-22页
     ·ZnO的结构特性第16-18页
     ·ZnO的光学性质第18-21页
     ·ZnO的电学特性第21-22页
   ·GaN衬底材料的选择第22-30页
     ·蓝宝石衬底第25页
     ·SiC衬底第25-26页
     ·Si衬底第26-30页
   ·本论文研究内容和行文安排第30页
 参考文献第30-36页
第二章 硅衬底GaN LED材料生长第36-46页
   ·Si衬底上LED器件研究进展第36-38页
   ·Si(111)衬底上GaN基LED外延片结构和生长过程第38-42页
     ·Si(111)衬底上GaN基LED外延片结构第38-39页
     ·Thomas Swan公司的MOCVD设备第39-40页
     ·Si(111)衬底上GaN基LED外延片生长过程第40-42页
   ·Si(111)衬底上GaN基LED外延片X射线双晶衍射分析第42-44页
 参考文献第44-46页
第三章 硅衬底GaN LED器件寿命研究第46-64页
   ·引言第46页
   ·GaN基LED测试的相关物理量第46-47页
   ·LED寿命测试方法第47-50页
   ·Si衬底GaN基LED蓝光、绿光老化实验第50-63页
     ·Si衬底GaN基LED蓝光老化寿命实验数据及分析第51-57页
     ·Si衬底GaN基LED绿光老化寿命实验数据及分析第57-63页
 参考文献第63-64页
第四章 硅衬底ZnO半导体材料生长第64-86页
   ·引言第64-71页
     ·Si衬底ZnO薄膜的研究进展第65-71页
       ·金属缓冲层第66-68页
       ·氧化物缓冲层第68-69页
       ·氮化物缓冲层第69-70页
       ·其他缓冲层第70-71页
     ·本章主要内容第71页
   ·ZnO/Ag/Si(111)薄膜的生长系统与工艺第71-75页
     ·衬底的清洗第71-72页
     ·金属Ag缓冲层的生长第72-73页
     ·ZnO/Ag/Si薄膜的外延第73-75页
       ·生长ZnO薄膜的常压MOCVD系统第73-75页
       ·ZnO薄膜的生长步骤第75页
   ·ZnO/Ag/Si(111)薄膜性能分析第75-83页
     ·表面形貌分析第75-76页
     ·结构性能分析第76-79页
     ·光学性能分析第79-83页
       ·ZnO的发光光谱和辐射复合第79-80页
       ·ZnO的禁带结构第80-81页
       ·室温荧光光谱第81-82页
       ·低温荧光光谱第82-83页
   ·小结第83页
 参考文献第83-86页
第五章 结论第86-88页
附录第88-89页
致谢第89页

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