| 第一章 前言 | 第1-36页 |
| ·纳米二氧化硅概论 | 第7-8页 |
| ·表面活性剂在二氧化硅表面的吸附 | 第8-16页 |
| ·对表面活性剂吸附状态的研究 | 第8-13页 |
| ·荧光衰减谱法 | 第8-11页 |
| ·中子反射法 | 第11-13页 |
| ·表面活性剂吸附的理论研究 | 第13-16页 |
| ·二氧化硅纳米粒子的组装 | 第16-19页 |
| ·单分散纳米粒子的二维自组装 | 第16-18页 |
| ·单分散纳米粒子的三维自组装 | 第18-19页 |
| ·溶剂挥发诱导的纳米粒子组装 | 第19-30页 |
| ·基片浸入法 | 第20-23页 |
| ·无表面活性剂体系 | 第20-21页 |
| ·含表面活性剂体系 | 第21-23页 |
| ·在基底上的液滴挥发体系 | 第23-30页 |
| ·液滴挥发形成coffee ring | 第24-27页 |
| ·无表面活性剂液滴挥发形成Bénard convection | 第27页 |
| ·含表面活性剂液滴挥发形成Bénard convection | 第27-30页 |
| ·本文立题思想 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-36页 |
| 第二章 表面活性剂在二氧化硅纳米粒子表面的吸附 | 第36-56页 |
| 第一节 二氧化硅纳米粒子的合成 | 第36-38页 |
| ·实验部分 | 第36-37页 |
| ·试剂与药品 | 第36页 |
| ·仪器 | 第36页 |
| ·实验过程 | 第36-37页 |
| ·SiO_2纳米粒子的表征 | 第37-38页 |
| 第二节 Tween 80 在二氧化硅纳米粒子表面的吸附 | 第38-49页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·仪器与试剂 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-49页 |
| 第三节 SDBS 和SDBS/Tween 80 在二氧化硅纳米粒子表面的吸附 | 第49-53页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·试剂和仪器 | 第50页 |
| ·实验方法 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第三章 水挥发诱导的二氧化硅纳米粒子的组装 | 第56-73页 |
| 第一节 疏水载玻片的处理 | 第56-58页 |
| ·实验部分 | 第56-57页 |
| ·试剂 | 第56页 |
| ·实验方法 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-58页 |
| 第二节 纯水体系中二氧化硅的组装 | 第58-70页 |
| ·实验部分 | 第58-59页 |
| ·试剂 | 第58页 |
| ·实验方法 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-70页 |
| 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者简历 | 第74-75页 |
| 中文摘要 | 第75-77页 |
| 英文摘要 | 第77-79页 |
