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外延工艺高精度温度测量系统研究与设计

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第一章 绪论第8-13页
    1.1 外延生长表层温度在线控制的目的和意义第8-9页
    1.2 精确测温仪的研究现状第9-11页
        1.2.1 国外研究现状第9-10页
        1.2.2 国内研究现状第10-11页
    1.3 本文研究的内容和论文安排第11-13页
        1.3.1 研究内容第11-12页
        1.3.2 论文安排第12-13页
第二章 外延生长表层温度测量方案设计第13-21页
    2.1 测温系统设计要求及工作环境概述第13-14页
    2.2 辐射测温原理第14-18页
        2.2.1 全辐射测温第15-16页
        2.2.2 亮度测温第16-17页
        2.2.3 双波长测温第17页
        2.2.4 多波段测温第17-18页
        2.2.5 最大波长测温第18页
    2.3 温度测量实施方案第18-20页
        2.3.1 热辐射测量方法第18-19页
        2.3.2 反射率测量方法第19-20页
    2.4 本章小结第20-21页
第三章 外延生长表层温度测量系统设计第21-42页
    3.1 系统光路及机械结构设计第21-27页
        3.1.1 光路仿真第21-24页
        3.1.2 机械结构设计第24-27页
    3.2 系统电路设计第27-32页
        3.2.1 LED控制电路设计第29-30页
        3.2.2 光电倍增管增益控制电路设计第30-32页
    3.3 辅助测试系统设计第32-34页
        3.3.1 热辐射与反射光接收光路辅助调试模块设计第33页
        3.3.2 探头与目标表面准直辅助调试模块设计第33页
        3.3.3 探头接收目标热辐射范围验证模块设计第33-34页
    3.4 硬件系统调试第34-36页
        3.4.1 LED控制电路调试第35页
        3.4.2 光电倍增管增益控制电路调试第35-36页
    3.5 光学系统调试第36-39页
        3.5.1 光源模块调试第37页
        3.5.2 热辐射与反射率测量复用光路模块调试第37页
        3.5.3 接收模块调试第37-38页
        3.5.4 探头准直调试第38-39页
    3.6 软件调试第39-41页
        3.6.1 软件采样时序分析第39-40页
        3.6.2 石墨盘外延片分片第40-41页
    3.7 本章小结第41-42页
第四章 外延生长表层温度测量系统参数标定第42-53页
    4.1 热辐射强度测量第42-45页
        4.1.1 热辐射强度一温度对应关系校准方法第42-44页
        4.1.2 热辐射强度一温度对应关系校准结果分析第44-45页
    4.2 温度测量仪反射率测量第45-48页
        4.2.1 外延表面反射率校准方法第45-46页
        4.2.2 外延表面反射率校准结果分析第46-47页
        4.2.3 外延表面反射率变化对温度测量的影响第47-48页
    4.3 温度测量仪热辐射检测范围第48-49页
    4.4 探头角度灵敏度测试第49-50页
    4.5 测温系统温度测量性能分析第50-52页
    4.6 本章小结第52-53页
第五章 结论第53-55页
    5.1 结论第53-54页
    5.2 展望第54-55页
参考文献第55-58页
致谢第58-59页
个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文第59页

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