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极紫外多层膜光栅的浮雕衬底制作及衍射效率测量与分析

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第1章 绪论第10-24页
   ·课题背景第10-14页
     ·极紫外多层膜光栅的产生与发展第10-12页
     ·极紫外多层膜光栅的应用第12-14页
   ·极紫外多层膜光栅的国内外研究现状及关键问题第14-21页
     ·理论计算第14-15页
     ·制作工艺第15-19页
     ·衍射性能第19-20页
     ·关键问题第20-21页
   ·本课题的研究意义和研究内容第21-22页
     ·课题的选取及研究意义第21页
     ·课题的研究内容第21-22页
   ·论文的结构安排第22-23页
 本章小结第23-24页
第2章 极紫外多层膜光栅的衍射效率计算第24-48页
   ·引言第24-26页
     ·光栅槽形定义第24-25页
     ·槽形与衍射效率计算第25-26页
   ·标量衍射理论第26-29页
     ·标量衍射理论的主要结论第26-28页
     ·标量衍射理论的适用范围第28-29页
   ·微分法第29-42页
     ·微分法计算思路及流程第29-39页
     ·实际槽形和粗糙度因素的算法实现第39-42页
   ·算例第42-47页
     ·算例一:TE 偏振和TM 偏振衍射效率的比较第44-45页
     ·算例二:实际槽形(粗糙度)与理想槽形衍射效率的比较第45页
     ·算例三:衍射效率与沟槽衍射效率、反射率之间的关系第45-47页
 本章小结第47-48页
第3章 极紫外闪耀光栅浮雕衬底的制作工艺第48-65页
   ·引言第48-51页
     ·全息–离子束刻蚀工艺简介第48-50页
     ·基于矩形掩模的氩氧混合离子束刻蚀工艺的提出第50-51页
   ·刻蚀模型第51-54页
     ·刻蚀过程的简化描述第51-53页
     ·掩模高宽比对刻蚀槽形的影响第53页
     ·离子束掠入射角及氧气分压对闪耀角的影响第53-54页
   ·关键工艺步骤及槽形测量第54-60页
     ·掩模最佳高宽比的确定第54-56页
     ·矩形掩模高宽比的控制第56-58页
     ·氩氧混合离子束刻蚀第58-59页
     ·光栅的槽形测量及参数提取第59-60页
   ·工艺实验结果与讨论第60-64页
     ·不同掩模高宽比下的光栅槽形第60-61页
     ·不同离子束掠入射角及氧气分压下的闪耀角第61-63页
     ·其他工艺影响因素讨论第63页
     ·工艺方法和刻蚀模型的适用范围第63-64页
 本章小结第64-65页
第4章 极紫外多层膜闪耀光栅的衍射效率测量与分析第65-77页
   ·引言第65-67页
     ·测量装置第65-66页
     ·测量方式第66-67页
   ·衍射效率超过30%的多层膜闪耀光栅第67-71页
     ·样品说明第67-68页
     ·衍射效率测量结果与分析第68-71页
   ·衍射效率与光栅槽形参数关系的理论分析与实验探索第71-76页
     ·研究目的与研究思路第71-72页
     ·光栅对照组及其沟槽衍射效率计算结果第72-74页
     ·衍射效率测量结果第74-75页
     ·讨论与结论第75-76页
 本章小结第76-77页
第5章 其他类型的极紫外多层膜光栅第77-85页
   ·引言第77-78页
   ·衍射效率超过20%的多层膜矩形光栅第78-82页
     ·矩形光栅的制作与槽形测量第78页
     ·样品说明第78-79页
     ·衍射效率测量结果与分析第79-82页
   ·宽带多层膜光栅第82-84页
     ·样品设计及参数第82-83页
     ·反射率、衍射效率测量结果与分析第83-84页
 本章小结第84-85页
第6章 总结与展望第85-88页
   ·论文工作总结第85-86页
   ·展望第86-88页
参考文献第88-95页
致谢第95-96页
附录A 从AFM 数据中提取光栅参数的原理及说明第96-104页
附录B 11-17nm 波段 SiO_2、Si、Mo 的折射率第104-110页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第110页

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