| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-35页 |
| ·研究意义及背景 | 第15-17页 |
| ·技术研究进展 | 第17-23页 |
| ·激光微细加工的技术研究进展 | 第17-20页 |
| ·激光化学的技术研究进展 | 第20-21页 |
| ·激光辅助腐蚀的技术研究进展 | 第21-23页 |
| ·基本理论基础 | 第23-32页 |
| ·光化学理论与定律 | 第23-27页 |
| ·半导体工艺中的激光化学 | 第27-28页 |
| ·热对流与热传导 | 第28页 |
| ·红外辐射 | 第28-32页 |
| ·课题来源及论文的主要工作 | 第32-35页 |
| 第二章 激光化学腐蚀热环境的红外监测 | 第35-60页 |
| ·实验装置与方法 | 第36-38页 |
| ·深腐蚀液层的红外热像分析 | 第38-54页 |
| ·激光化学腐蚀进程的红外热像特征 | 第38-46页 |
| ·竖直方向的热分布特征 | 第38-41页 |
| ·水平方向的热分布特征 | 第41-44页 |
| ·热分布的二维及三维特征 | 第44-46页 |
| ·腐蚀液浓度对激光化学腐蚀进程红外热像的影响 | 第46-54页 |
| ·溶液浓度对竖直方向热分布的影响 | 第46-49页 |
| ·溶液浓度对水平方向热分布的影响 | 第49-51页 |
| ·溶液浓度对热分布影响的二维及三维特征 | 第51-54页 |
| ·浅腐蚀液层的红外实时监测 | 第54-60页 |
| ·研究方法与实验装置 | 第55-56页 |
| ·粗糙度与红外灰度标准差关系 | 第56-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-60页 |
| ·红外热像的空间分布与灰度数值特征 | 第58页 |
| ·红外灰度数值的归一化标准差 | 第58-60页 |
| 第三章 湿法化学腐蚀反应启动时长的测试方法研究 | 第60-78页 |
| ·测试装置设计与测试方法 | 第60-62页 |
| ·材料表面腐蚀液滴的红外辐射特性研究 | 第62-68页 |
| ·研究意义与方法 | 第62-63页 |
| ·GaAs表面静止状态H_2SO_4-H_2O_2-H_2O液滴的红外辐射特性 | 第63页 |
| ·缓慢运动(1mm/s)H_2SO_4-H_2O_2-H_2O液滴的红外辐射特性 | 第63-66页 |
| ·快速运动(0.5 m/s)H_2SO_4-H_2O_2-H_2O液滴的红外辐射特性 | 第66-68页 |
| ·湿法腐蚀反应启动时长的测定研究 | 第68-78页 |
| ·GaAs表面H_2SO_4-H_2O_2-H_2O运动液滴残留线形液膜的红外热像 | 第68-71页 |
| ·GaAs与H_2SO_4-H_2O_2-H_2O反应启动时长的测定 | 第71页 |
| ·H_2SO_4-H_2O_2-H_2O浓度对GaAs反应启动时长的影响 | 第71-73页 |
| ·YBCO薄膜表面H_3PO_4-H_2O液滴残留线形液膜的红外热像 | 第73-75页 |
| ·YBCO超导薄膜与H_3PO_4反应启动时长的测定 | 第75-78页 |
| 第四章 激光诱导液相腐蚀加工工艺技术研究 | 第78-102页 |
| ·激光诱导液相抗蚀膜掩蔽法 | 第79-85页 |
| ·基本方法及实验装置 | 第80-81页 |
| ·腐蚀孔侧壁垂直度和底面均匀性改善的理论分析 | 第81页 |
| ·正性光刻胶抗激光化学腐蚀性能研究 | 第81-83页 |
| ·应用抗蚀膜掩蔽法实现圆弧形边缘区域控制 | 第83页 |
| ·抗蚀膜掩蔽法中的横向腐蚀 | 第83-85页 |
| ·激光诱导液相次序选择腐蚀法 | 第85-90页 |
| ·基本方法及实验装置 | 第86页 |
| ·次序选择腐蚀法对腐蚀生成图样的改善 | 第86-87页 |
| ·GaAs基片的H_2O_2化学腐蚀 | 第87-88页 |
| ·次序选择腐蚀法提高基片的激光腐蚀表面均匀性 | 第88-89页 |
| ·次序选择腐蚀缩短激光化学腐蚀时间 | 第89页 |
| ·次序选择腐蚀法的腐蚀电流表征 | 第89-90页 |
| ·激光化学诱导液相电极腐蚀法 | 第90-98页 |
| ·基本方法及实验装置 | 第91页 |
| ·电极腐蚀法对腐蚀生成图样的改善 | 第91-92页 |
| ·电极腐蚀法对激光诱导液相腐蚀表面均匀性的改善 | 第92页 |
| ·电极腐蚀法对激光诱导液相腐蚀速率的提高 | 第92-93页 |
| ·电极腐蚀法提供激光化学腐蚀进程的电流表征 | 第93-95页 |
| ·电极距离对激光化学电极腐蚀法的影响 | 第95-98页 |
| ·激光化学诱导液相两步腐蚀法 | 第98-102页 |
| ·基本方法及实验装置 | 第98-99页 |
| ·GaAs直接激光化学腐蚀形成深孔的图像特征 | 第99-100页 |
| ·单边加长腐蚀时间去除单边晶体取向影响 | 第100-101页 |
| ·双边加长腐蚀时间去除双边晶体取向影响 | 第101-102页 |
| 第五章 激光诱导液相腐蚀应用于器件研制 | 第102-123页 |
| ·光控YBCO高温超导衰减器 | 第102-116页 |
| ·应用研究背景 | 第102-103页 |
| ·YBCO高温超导薄膜的激光化学辅助刻蚀 | 第103-107页 |
| ·YBCO激光化学刻蚀表面的变化特征 | 第103-105页 |
| ·无掩膜YBCO激光化学刻蚀程度的区域分布特征 | 第105-106页 |
| ·铝酸镧衬底晶向对表面钇钡铜氧薄膜的刻蚀趋向影响 | 第106-107页 |
| ·高温超导衰减器的制作与测试 | 第107-116页 |
| ·结构与测试系统 | 第107-109页 |
| ·衰减器插入损耗测试 | 第109页 |
| ·激光功率控制实现高精度衰减量微调 | 第109-111页 |
| ·激光热效应影响时长 | 第111-113页 |
| ·激光热效应对二次激光激励的影响 | 第113-115页 |
| ·激光光斑偏移对光控衰减器的影响 | 第115-116页 |
| ·圆孔型探测器的设计 | 第116-123页 |
| ·研究需求背景 | 第116-117页 |
| ·圆孔型探测器与其他探测器的结构对比 | 第117-120页 |
| ·圆孔型探测器的制作方法 | 第120-121页 |
| ·圆孔型InP衬底光电探测器的制作方法 | 第121-123页 |
| 第六章 结论 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-137页 |
| 攻博期间取得的研究成果 | 第137-141页 |
| 个人简历 | 第141-142页 |
