小尺寸高功率密度等离子体放电与材料处理
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 小尺寸高功率密度等离子体 | 第12-15页 |
| 1.2 几种小尺寸高功率密度等离子体 | 第15-21页 |
| 1.2.1 阴极弧斑等离子体 | 第15-17页 |
| 1.2.2 液相小尺寸放电等离子体 | 第17-19页 |
| 1.2.3 小尺寸感应耦合等离子体 | 第19-21页 |
| 1.3 小尺寸等离子体在材料处理上的应用 | 第21-24页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第24-26页 |
| 第二章 铁基表面弧斑等离子体的光学特性 | 第26-62页 |
| 2.1 弧斑等离子体简介 | 第26-33页 |
| 2.1.1 ecton模型 | 第28-31页 |
| 2.1.2 弧放电不稳定性 | 第31-33页 |
| 2.2 弧斑等离子体除鳞应用 | 第33-37页 |
| 2.2.1 常规除鳞方法 | 第34页 |
| 2.2.2 弧斑等离子体除鳞 | 第34-37页 |
| 2.3 等离子体发射光谱诊断原理 | 第37-45页 |
| 2.3.1 粒子相对浓度变化 | 第37-39页 |
| 2.3.2 电子温度及电子密度计算 | 第39-44页 |
| 2.3.3 气体温度计算 | 第44-45页 |
| 2.4 实验装置介绍 | 第45-47页 |
| 2.5 弧斑等离子体除鳞实验 | 第47-48页 |
| 2.6 弧斑等离子体光谱特征 | 第48-52页 |
| 2.7 电子激发温度测量结果 | 第52-56页 |
| 2.7.1 电子激发温度随电流的变化 | 第52-54页 |
| 2.7.2 电子激发温度的空间分布 | 第54-55页 |
| 2.7.3 电子激发温度随电极间距的变化 | 第55-56页 |
| 2.8 弧斑等离子体不稳定性 | 第56-59页 |
| 2.9 本章小结 | 第59-62页 |
| 第三章 液下小间隙等离子体放电与重油处理 | 第62-88页 |
| 3.1 重油加工处理简介 | 第62-68页 |
| 3.1.1 重油加工常规方法 | 第64-65页 |
| 3.1.2 等离子体处理重油 | 第65-68页 |
| 3.2 液下放电等离子体介绍 | 第68-73页 |
| 3.2.1 液下等离子体反应器类型 | 第69-72页 |
| 3.2.2 液体介质中击穿机制 | 第72-73页 |
| 3.3 重油及正十二烷液下击穿特性 | 第73-76页 |
| 3.3.1 实验安排 | 第73页 |
| 3.3.2 重油和正十二烷液下放电波形 | 第73-75页 |
| 3.3.3 不同电极结构对放电的影响 | 第75-76页 |
| 3.4 重油及正十二烷等离子体处理实验研究 | 第76-86页 |
| 3.4.1 实验装置介绍 | 第76-78页 |
| 3.4.2 产物分析方法 | 第78-79页 |
| 3.4.3 正十二烷处理结果 | 第79-83页 |
| 3.4.4 重油处理结果 | 第83-86页 |
| 3.5 本章小结 | 第86-88页 |
| 第四章 小尺寸ICP等离子体射流特性诊断 | 第88-108页 |
| 4.1 等离子体射流简介 | 第88-96页 |
| 4.1.1 大气压等离子体射流 | 第88-91页 |
| 4.1.2 小尺寸ICP射流材料沉积的研究现状 | 第91-96页 |
| 4.2 实验装置介绍 | 第96-97页 |
| 4.3 ICP等离子体射流特性 | 第97-104页 |
| 4.3.1 ICP等离子体光谱 | 第97-99页 |
| 4.3.2 放电参数与输出电压的关系 | 第99-102页 |
| 4.3.3 放电参数与甲烷流量的关系 | 第102-104页 |
| 4.4 大气压ICP等离子体聚合物材料制备 | 第104-107页 |
| 4.5 本章小结 | 第107-108页 |
| 第五章 总结与展望 | 第108-110页 |
| 5.1 本论文内容总结 | 第108-109页 |
| 5.2 进一步研究方向 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第119页 |
