| 摘要 | 第1-13页 |
| Abstract | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-44页 |
| ·LaB_6的晶体结构与性能 | 第16-19页 |
| ·LaB_6的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·LaB_6的力学与物理性能 | 第17-19页 |
| ·LaB_6材料的研究现状 | 第19-23页 |
| ·LaB_6薄膜的制备工艺 | 第23-28页 |
| ·化学气相沉积 | 第23-24页 |
| ·电子束蒸发 | 第24-25页 |
| ·真空蒸发 | 第25-26页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第26-27页 |
| ·溅射工艺 | 第27-28页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第28-30页 |
| ·目前存在的主要问题 | 第28-29页 |
| ·论文研究的目的及意义 | 第29页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-44页 |
| 第二章 试验方案和研究方法 | 第44-55页 |
| ·技术路线及研究方案 | 第44-45页 |
| ·实验用主要设备 | 第45-46页 |
| ·试验用原材料 | 第46-47页 |
| ·靶材材料 | 第46页 |
| ·基体材料 | 第46-47页 |
| ·LaB_6薄膜的制备工艺 | 第47-50页 |
| ·沉积速率测定 | 第48页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第48-49页 |
| ·掠入射角X衍射分析(GIXS) | 第49页 |
| ·红外光谱分析(FT-IR) | 第49-50页 |
| ·LaB_6薄膜的退火工艺 | 第50页 |
| ·Si(111)和Si(100)基片对薄膜生长的影响 | 第50-51页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第50页 |
| ·薄膜组分表征 | 第50-51页 |
| ·薄膜原子化学键合表征 | 第51页 |
| ·薄膜结构表征 | 第51页 |
| ·LaB_6薄膜的物理性能测试 | 第51-54页 |
| ·薄膜力学性能测试 | 第51-53页 |
| ·薄膜电阻测试 | 第53-54页 |
| ·高温抗氧化性分析 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第三章 单晶硅基LaB_6薄膜制备工艺参数的研究 | 第55-94页 |
| ·溅射功率对LaB_6薄膜的影响 | 第55-62页 |
| ·溅射功率与沉积速率的关系 | 第55-56页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第56-57页 |
| ·薄膜结构XRD分析 | 第57-59页 |
| ·薄膜组织的FESEM观察 | 第59-60页 |
| ·薄膜红外反射光谱测定及分析 | 第60-62页 |
| ·氩气气压对LaB_6薄膜的影响 | 第62-70页 |
| ·氩气气压与沉积速率的关系 | 第62-63页 |
| ·薄膜结构XRD分析 | 第63-66页 |
| ·薄膜形貌观察 | 第66-68页 |
| ·薄膜红外反射光谱测定及分析 | 第68-70页 |
| ·基片偏压对LaB_6薄膜的影响 | 第70-76页 |
| ·基片偏压与沉积速率的关系 | 第70-71页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第71-73页 |
| ·薄膜组织的FESEM观察 | 第73页 |
| ·薄膜结构XRD分析 | 第73-75页 |
| ·薄外反射光谱测定及分析 | 第75-76页 |
| ·基片温度对LaB_6薄膜的影响 | 第76-82页 |
| ·基片温度与沉积速率的关系 | 第76-77页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第77-78页 |
| ·薄膜组织的FESEM观察 | 第78-79页 |
| ·薄膜结构XRD分析 | 第79-81页 |
| ·薄膜红外反射光谱测定及分析 | 第81-82页 |
| ·溅射时间对LaB_6薄膜的影响 | 第82-86页 |
| ·溅射时间与沉积速率的关系 | 第82-83页 |
| ·薄膜结构XRD分析 | 第83-84页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第84-85页 |
| ·薄膜红外反射光谱测定及分析 | 第85-86页 |
| ·退火温度对LaB_6薄膜的影响 | 第86-89页 |
| ·薄膜的结晶度分析 | 第86-87页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第87-88页 |
| ·薄膜红外反射光谱测定及分析 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-94页 |
| 第四章 LaB_6薄膜生长及控制 | 第94-111页 |
| ·不同单晶晶向硅基底制备的LaB_6薄膜成分分析 | 第94-95页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第95-97页 |
| ·表面形貌 | 第95-96页 |
| ·薄膜组织的FESEM形貌 | 第96-97页 |
| ·薄膜的形成与生长过程分析 | 第97-98页 |
| ·薄膜元素分析 | 第98-101页 |
| ·LaB_6薄膜的分子结构分析 | 第101-106页 |
| ·红外反射光谱 | 第101-102页 |
| ·拉曼散射行为 | 第102-106页 |
| ·LaB_6薄膜的精细结构分析 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108页 |
| 参考文献 | 第108-111页 |
| 第五章 LaB_6薄膜的性能研究 | 第111-136页 |
| ·LaB_6薄膜的力学性能 | 第111-127页 |
| ·薄膜与基体的结合力 | 第111-117页 |
| ·薄膜硬度及弹性模量 | 第117-127页 |
| ·LaB_6薄膜的导电性能 | 第127-132页 |
| ·溅射功率的影响 | 第127-128页 |
| ·氩气气压的影响 | 第128-129页 |
| ·基片偏压的影响 | 第129-130页 |
| ·基片温度的影响 | 第130-131页 |
| ·溅射时间的影响 | 第131-132页 |
| ·LaB_6薄膜的高温抗氧化性 | 第132-133页 |
| ·本章小结 | 第133-134页 |
| 参考文献 | 第134-136页 |
| 第六章 结论 | 第136-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第139-140页 |
| 英文论文 | 第140-154页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第154页 |