基于纳米压印技术硅表面抗反射纳米周期结构的研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-14页 |
1.1 课题的背景和意义 | 第9-11页 |
1.2 纳米压印技术的发展 | 第11-12页 |
1.3 硅表面抗反射结构的研究现状 | 第12-13页 |
1.4 本论文主要研究的内容 | 第13-14页 |
2 表面抗反射纳米周期结构的理论分析 | 第14-23页 |
2.1 亚波长结构的严格耦合波理论 | 第15-19页 |
2.2 亚波长结构的等效媒质理论 | 第19-22页 |
2.3 本章小结 | 第22-23页 |
3 纳米压印模板的制备 | 第23-45页 |
3.1 纳米压印模板的分类和制备方法 | 第24-30页 |
3.2 多孔硅模板的制备 | 第30-43页 |
3.3 本章小结 | 第43-45页 |
4 硅表面抗反射纳米周期结构的制备 | 第45-58页 |
4.1 纳米压印模板的处理 | 第45-46页 |
4.2 抗反射纳米周期结构的制备 | 第46-52页 |
4.3 硅表面抗反射性能测试和理论分析 | 第52-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-58页 |
5 总结与展望 | 第58-60页 |
5.1 课题研究成果 | 第58-59页 |
5.2 进一步研究工作 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-67页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表文章专利 | 第67页 |