光学元件边缘效应收敛研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 大口径反射镜加工技术的应用 | 第10-18页 |
| 1.2.1 传统大口径反射镜加工技术 | 第10-11页 |
| 1.2.2 现代化大口径反射镜加工技术 | 第11-18页 |
| 1.3 本论文研究的主要内容和意义 | 第18-21页 |
| 第2章 光学元件表面误差 | 第21-30页 |
| 2.1 表面误差的分类 | 第21-23页 |
| 2.1.1 低频误差 | 第22页 |
| 2.1.2 中频误差 | 第22-23页 |
| 2.1.3 高频误差 | 第23页 |
| 2.2 表面误差（低频误差）的测量原理和方法 | 第23-25页 |
| 2.3 边缘效应 | 第25-27页 |
| 2.3.1 边缘效应产生的机理 | 第25-26页 |
| 2.3.2 边缘效应的模型 | 第26-27页 |
| 2.4 边缘效应的收敛方法 | 第27-30页 |
| 2.4.1 磨边法 | 第27页 |
| 2.4.2 边缘扩展法 | 第27-28页 |
| 2.4.3 提拉法 | 第28页 |
| 2.4.4 露边法 | 第28-30页 |
| 第3章 光学研抛基础原理 | 第30-37页 |
| 3.1 Preston假设 | 第30-31页 |
| 3.2 平转动运动原理及模型 | 第31-33页 |
| 3.3 平转动驻留时间的求解 | 第33-34页 |
| 3.4 平转动磨盘的运动轨迹 | 第34-35页 |
| 3.5 影响边缘效应的工艺参数 | 第35-37页 |
| 3.5.1 磨盘压力与速度 | 第35页 |
| 3.5.2 抛光粉粒度 | 第35页 |
| 3.5.3 磨盘的露边量 | 第35-37页 |
| 第4章 实验设计及数据处理理论基础 | 第37-43页 |
| 4.1 实验设计与数据处理的意义 | 第37-38页 |
| 4.2 析因设计 | 第38-39页 |
| 4.3 方差分析 | 第39-41页 |
| 4.4 回归分析 | 第41-42页 |
| 4.5 响应曲面法 | 第42-43页 |
| 第5章 边缘效应收敛的实验验证 | 第43-57页 |
| 5.1 设计方案 | 第43页 |
| 5.2 实施过程 | 第43-56页 |
| 5.2.1 过程参数 | 第43-44页 |
| 5.2.2 部分析因设计 | 第44-47页 |
| 5.2.3 数据分析 | 第47-50页 |
| 5.2.4 全析因设计 | 第50-53页 |
| 5.2.5 确认实验 | 第53-56页 |
| 5.3 小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 个人简历 | 第63页 |
