| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 润滑与润滑剂 | 第11-14页 |
| 1.2.1 润滑及其基本类型 | 第11-13页 |
| 1.2.2 润滑剂及其基本类型 | 第13-14页 |
| 1.3 固体润滑剂 | 第14-18页 |
| 1.3.1 固体润滑剂的作用机理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 常用固体润滑剂 | 第15-18页 |
| 1.4 纳米薄膜及其制备方法 | 第18-21页 |
| 1.4.1 纳米薄膜 | 第18-19页 |
| 1.4.2 纳米薄膜的主要制备方法 | 第19-21页 |
| 1.5 WS_2的概述 | 第21-26页 |
| 1.5.1 WS_2的基本性能及晶体结构 | 第22-23页 |
| 1.5.2 WS_2制备方法的研究现状 | 第23-26页 |
| 1.6 本课题立题依据及研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 薄膜的PLD制备过程及表征方法 | 第28-35页 |
| 2.1 靶材与基底的预处理 | 第28-29页 |
| 2.1.1 靶材的预处理工艺 | 第28页 |
| 2.1.2 硅基底的预处理工艺 | 第28-29页 |
| 2.2 PLD的基本原理及薄膜制备过程 | 第29-32页 |
| 2.2.1 PLD实验装置 | 第29页 |
| 2.2.2 PLD系统的原理及特点 | 第29-31页 |
| 2.2.3 薄膜制备操作过程 | 第31-32页 |
| 2.3 薄膜的表征方法 | 第32-35页 |
| 2.3.1 微观结构分析 | 第32-33页 |
| 2.3.2 性能测试 | 第33-35页 |
| 第3章 WS_x薄膜制备工艺参数的优化 | 第35-43页 |
| 3.1 实验方法 | 第35-36页 |
| 3.2 结果分析及讨论 | 第36-41页 |
| 3.2.1 正交试验结果分析 | 第36-37页 |
| 3.2.2 薄膜的表面形貌及微观结构分析 | 第37-40页 |
| 3.2.3 薄膜的摩擦系数 | 第40页 |
| 3.2.4 优化参数下薄膜的成分与摩擦系数 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 PLD工艺参数对WS_x薄膜的影响 | 第43-69页 |
| 4.1 基底温度对薄膜微观结构及摩擦学性能的影响 | 第43-50页 |
| 4.1.1 薄膜的表面形貌与组织结构 | 第44-48页 |
| 4.1.2 薄膜的摩擦磨损性能 | 第48-50页 |
| 4.2 激光通量对薄膜微观结构及摩擦学性能的影响 | 第50-56页 |
| 4.2.1 激光通量对薄膜微观结构的影响 | 第51-54页 |
| 4.2.2 不同激光通量下薄膜的摩擦学性能 | 第54-56页 |
| 4.3 沉积气压对薄膜微观结构及摩擦学性能的影响 | 第56-62页 |
| 4.3.1 沉积气压对薄膜微观结构的影响 | 第56-59页 |
| 4.3.2 不同气压条件下薄膜的摩擦学性能 | 第59-62页 |
| 4.4 靶基距对薄膜微观结构及摩擦学性能的影响 | 第62-67页 |
| 4.4.1 靶基距对薄膜微观结构的影响 | 第62-66页 |
| 4.4.2 不同靶基距下薄膜的摩擦学性能 | 第66-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 第5章 WS_x/a-C复合薄膜的制备与表征 | 第69-84页 |
| 5.1 非晶态碳膜(a-C)的组织结构与摩擦学性能 | 第69-73页 |
| 5.1.1 非晶态碳膜的表面形貌及组织结构 | 第70-71页 |
| 5.1.2 非晶态碳膜(a-C膜)的拉曼光谱分析 | 第71-72页 |
| 5.1.3 非晶态碳膜的摩擦磨损性能 | 第72-73页 |
| 5.2 WS_x/a-C复合薄膜的PLD法制备 | 第73-75页 |
| 5.2.1 WS_x/a-C复合薄膜的制备 | 第73-75页 |
| 5.3 WS_x/a-C复合薄膜的微观结构及摩擦学性能 | 第75-82页 |
| 5.3.1 WS_x/a-C复合薄膜的表面形貌及组织结构 | 第75-79页 |
| 5.3.2 WS_x/a-C复合薄膜的摩擦磨损性能 | 第79-82页 |
| 5.4 本章小结 | 第82-84页 |
| 第6章 结论与展望 | 第84-86页 |
| 6.1 结论 | 第84-85页 |
| 6.2 展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第91页 |
