| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 碳基材料与氮化碳概述 | 第10-13页 |
| 1.2 氮化碳的性能及潜在应用 | 第13-16页 |
| 1.2.1 力学性能及应用 | 第13-14页 |
| 1.2.2 摩擦学性能及应用 | 第14-15页 |
| 1.2.3 电子光学性能及应用 | 第15页 |
| 1.2.4 化学性能及应用 | 第15-16页 |
| 1.3 氮化碳的制备方法及研究现状 | 第16-21页 |
| 1.3.1 高温高压法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 离子注入法 | 第17页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 电化学沉积法 | 第18-19页 |
| 1.3.5 反应溅射法 | 第19-20页 |
| 1.3.6 脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
| 1.4 氮化碳材料研究存在的问题和不足 | 第21页 |
| 1.5 本文的立题依据及研究内容 | 第21-23页 |
| 1.5.1 本文的立题依据 | 第21-22页 |
| 1.5.2 本文的研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 PLD试验原理与薄膜表征方法 | 第23-31页 |
| 2.1 PLD基本原理 | 第23-24页 |
| 2.2 脉冲激光沉积的技术特点 | 第24-25页 |
| 2.3 靶材的制备 | 第25-26页 |
| 2.3.1 试验设备 | 第25页 |
| 2.3.2 靶的制备 | 第25-26页 |
| 2.4 薄膜的表征 | 第26-31页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| 2.4.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第27-29页 |
| 2.4.3 薄膜拉曼结构分析(Raman) | 第29-30页 |
| 2.4.4 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第30-31页 |
| 第3章 不同激光通量下CN_x薄膜的组织结构和摩擦学性能 | 第31-41页 |
| 3.1 薄膜表面形貌和氮含量 | 第31-34页 |
| 3.2 薄膜的XPS和Raman光谱表征 | 第34-37页 |
| 3.3 激光通量对薄膜摩擦性能的影响 | 第37-40页 |
| 3.4 本章结论 | 第40-41页 |
| 第4章 不同沉积气压中CN_x薄膜的组织结构和摩擦学性能 | 第41-49页 |
| 4.1 薄膜表面形貌和氮含量 | 第41-43页 |
| 4.2 薄膜的XPS和Raman光谱表征 | 第43-46页 |
| 4.3 沉积气压对薄膜摩擦性能的影响 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 不同靶衬间距下CN_x薄膜的组织结构和摩擦学性能 | 第49-58页 |
| 5.1 薄膜表面形貌和氮含量 | 第49-51页 |
| 5.2 薄膜的XPS和Raman光谱表征 | 第51-55页 |
| 5.3 靶衬间距对薄膜摩擦性能的影响 | 第55-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第6章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 结论 | 第58-59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间主要科研成果 | 第66页 |
