致谢 | 第7-8页 |
摘要 | 第8-9页 |
ABSTRACT | 第9-10页 |
第1章 绪论 | 第17-23页 |
1.1 电化学加工 | 第17-18页 |
1.1.1 电化学加工原理 | 第17页 |
1.1.2 电化学加工特点 | 第17-18页 |
1.2 电化学抛光技术及装备国内外研究现状 | 第18-21页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第18-19页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第19-21页 |
1.3 课题来源、目的及意义 | 第21-22页 |
1.3.1 课题来源 | 第21页 |
1.3.2 课题目的及意义 | 第21-22页 |
1.4 课题研究的主要内容 | 第22-23页 |
第2章 圆管外表面电化学抛光原理 | 第23-33页 |
2.1 电化学抛光机理 | 第23-25页 |
2.1.1 电化学抛光原理 | 第23-24页 |
2.1.2 电化学抛光反应过程 | 第24-25页 |
2.2 影响加工质量的主要因素分析 | 第25-31页 |
2.2.1 加工间隙 | 第25-26页 |
2.2.2 电场分析 | 第26-28页 |
2.2.3 流场分析 | 第28-29页 |
2.2.4 工艺参数的影响 | 第29-31页 |
2.3 电化学抛光前的预处理和抛光后表面性能及抛光注意事项 | 第31-32页 |
2.3.1 电化学抛光前的预处理 | 第32页 |
2.3.2 电化学抛光后的表面性能 | 第32页 |
2.3.3 电化学抛光注意事项 | 第32页 |
2.4 本章小结 | 第32-33页 |
第3章 电化学抛光机床整体设计 | 第33-52页 |
3.1 电化学抛光机床的结构设计及功能要求 | 第33-34页 |
3.2 电化学抛光机床的主要参数和运动分析 | 第34-35页 |
3.2.1 机床床身尺寸 | 第34页 |
3.2.2 运动参数设计 | 第34页 |
3.2.3 机床工作原理及运动分析 | 第34-35页 |
3.3 电化学抛光机床主要零部件设计及整体布局设计 | 第35-45页 |
3.3.1 床身设计 | 第36-38页 |
3.3.2 阴极设计 | 第38页 |
3.3.3 传动系统设计 | 第38-41页 |
3.3.4 驱动电机选型 | 第41-45页 |
3.4 电解液系统 | 第45-48页 |
3.4.1 电解液净化 | 第46页 |
3.4.2 电解液恒温系统 | 第46-48页 |
3.5 加工电源及导电装置 | 第48-51页 |
3.5.1 加工电源 | 第48-49页 |
3.5.2 导电装置 | 第49-51页 |
3.6 本章小结 | 第51-52页 |
第4章 电化学抛光机床有限元分析及电场流场仿真 | 第52-63页 |
4.1 电化学抛光机床有限元分析与优化 | 第52-56页 |
4.1.1 机床本体结构分析 | 第52页 |
4.1.2 几何模型的建立 | 第52页 |
4.1.3 模型简化 | 第52-53页 |
4.1.4 划分网格与分析计算 | 第53-56页 |
4.2 电化学抛光电场分析 | 第56-60页 |
4.3 电化学抛光流场分析 | 第60-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-63页 |
第5章 机床控制系统设计 | 第63-78页 |
5.1 控制系统设计要求 | 第63-64页 |
5.1.1 机床运动分析 | 第63页 |
5.1.2 机床主要参数 | 第63-64页 |
5.1.3 机床控制要求 | 第64页 |
5.2 控制系统总体设计方案 | 第64-65页 |
5.2.1 总体设计方案 | 第64-65页 |
5.2.2 触摸屏及PLC的选型 | 第65页 |
5.3 硬件电路设计 | 第65-68页 |
5.3.1 主电路设计 | 第65-66页 |
5.3.2 控制电路设计 | 第66-67页 |
5.3.3 输入输出电路设计 | 第67-68页 |
5.4 软件总体设计 | 第68-69页 |
5.5 人机交互界面设计 | 第69-73页 |
5.5.1 主界面设计 | 第69页 |
5.5.2 操作界面设计 | 第69-73页 |
5.6 梯形图设计 | 第73-77页 |
5.6.1 快动、点动程序模块设计 | 第73-74页 |
5.6.2 手动加工程序模块设计 | 第74-75页 |
5.6.3 自动加工程序模块设计 | 第75-76页 |
5.6.4 断电保护程序设计 | 第76-77页 |
5.7 本章小结 | 第77-78页 |
第6章 总结与展望 | 第78-80页 |
6.1 总结 | 第78页 |
6.2 展望 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第83页 |