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碳化硅电子结构和光学性质温度依赖性的第一性原理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-15页
    1.1 SiC 的发展现状第9-10页
    1.2 光学性质温度依赖性的研究背景及现状第10-13页
        1.2.1 实验方法第11-12页
        1.2.2 国内外在该方向的研究现状及分析第12-13页
    1.3 主要研究内容第13-15页
第2章 介电常数的认识和计算第15-25页
    2.1 材料极化机理第15-16页
    2.2 介电常数理论模型第16-20页
        2.2.1 Drude 模型第17-18页
        2.2.2 Lorentz 模型第18-19页
        2.2.3 介电弛豫模型第19-20页
        2.2.4 现代理论模型第20页
    2.3 色散关系和 K-K 变换第20-24页
        2.3.1 线性响应第21-22页
        2.3.2 因果性原理第22-23页
        2.3.3 K-K 关系的推导第23-24页
    2.4 本章小结第24-25页
第3章 温度影响光学性质理论及计算简介第25-42页
    3.1 密度泛函方法第25-30页
        3.1.1 Hohenberg-Kohn 定理第25-26页
        3.1.2 Kohn-Sham 定理第26-28页
        3.1.3 局域密度近似(LDA)第28-29页
        3.1.4 赝势第29-30页
    3.2 温度影响光学介电常数理论基础第30-36页
        3.2.1 晶格热膨胀第30-31页
        3.2.2 电子-声子相互作用第31-34页
        3.2.3 声子-声子相互作用第34-35页
        3.2.4 激子效应第35-36页
    3.3 不同光波段的响应机制第36-39页
        3.3.1 可见-紫外光波段第36-38页
        3.3.2 近红外光区域第38-39页
    3.4 常用计算软件包第39-41页
        3.4.1 CASTEP第40页
        3.4.2 ABINIT第40-41页
    3.5 本章小结第41-42页
第4章 SiC 晶体光学性质温度依赖性研究第42-63页
    4.1 3C-SiC 光学性质随温度变化研究第42-54页
        4.1.1 参数优化第42-44页
        4.1.2 GW 近似计算第44-45页
        4.1.3 晶格热膨胀和电子能带结构的计算第45-46页
        4.1.4 电声相互作用处理第46-47页
        4.1.5 介电常数计算第47-49页
        4.1.6 与实验结果的对比分析第49-54页
    4.2 4H-SiC 光学性质研究第54-57页
        4.2.1 计算参数优化第54-55页
        4.2.2 电子能带结构计算及分析第55-56页
        4.2.3 光学介电常数计算与对比第56-57页
    4.3 6H-SiC 光学性质研究第57-62页
        4.3.1 计算参数优化第58-59页
        4.3.2 电子能带结构计算及分析第59-60页
        4.3.3 光学介电常数计算与对比第60-62页
    4.4 本章小结第62-63页
结论第63-64页
参考文献第64-69页
致谢第69页

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