| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 金属钼的物理性质 | 第13页 |
| 1.3 钼的化学性质 | 第13-14页 |
| 1.4 钼的主要氧化物的性质 | 第14页 |
| 1.5 钼及其合金在高温环境下的应用 | 第14-18页 |
| 1.6 提高钼及其合金高温抗氧化性 | 第18-22页 |
| 1.6.1 钼的合金化技术 | 第18-21页 |
| 1.6.2 钼及合金的表面涂层技术 | 第21-22页 |
| 1.7 钼及钼合金高温抗氧化涂层的制备方法 | 第22-23页 |
| 1.7.1 化学气相沉积法 | 第22页 |
| 1.7.2 粉末包渗法 | 第22-23页 |
| 1.7.3 料浆烧结法 | 第23页 |
| 1.7.4 热喷涂法 | 第23页 |
| 1.7.5 熔盐法 | 第23页 |
| 1.8 本课题来源及研究意义 | 第23-26页 |
| 第二章 试验方案与设计 | 第26-32页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验总体方案设计 | 第26-27页 |
| 2.3 实验材料 | 第27页 |
| 2.4 实验主要设备 | 第27页 |
| 2.5 涂层材料的制备 | 第27-29页 |
| 2.5.1 原料的制备 | 第27-28页 |
| 2.5.2 涂层材料的制备 | 第28-29页 |
| 2.6 性能测试 | 第29-30页 |
| 2.6.1 烧结体致密度测试 | 第29-30页 |
| 2.6.2 热膨胀系数的测定 | 第30页 |
| 2.7 高温氧化实验 | 第30-31页 |
| 2.8 试样的组织结构表征 | 第31-32页 |
| 2.8.1 X射线衍射分析 | 第31页 |
| 2.8.2 扫描电子显微镜观察 | 第31-32页 |
| 第三章 Mo-W-Si-N涂层材料的制备 | 第32-47页 |
| 3.1 引言 | 第32-34页 |
| 3.1.1 Mo Si_2的制备 | 第32-33页 |
| 3.1.2 WSi_2的制备 | 第33-34页 |
| 3.2 Mo-W-Si-N涂层材料的制备 | 第34-42页 |
| 3.2.1 粒度对Mo-W-Si-N涂层材料的致密度的影响 | 第34-36页 |
| 3.2.2 粘结剂与压力对致密度的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.3 烧结温度对致密度的影响 | 第37-42页 |
| 3.3 等离子烧结法制备不同N含量的Mo-W-Si-N涂层材料 | 第42页 |
| 3.4 烧结温度对涂层材料致密度的影响 | 第42-44页 |
| 3.5 保温时间对涂层材料致密度的影响 | 第44-45页 |
| 3.6 真空烧结和放电等离子烧结涂层材料的对比研究 | 第45-46页 |
| 3.7 小结 | 第46-47页 |
| 第四章 Mo-W-Si-N涂层材料与纯钼基体的热匹配性 | 第47-58页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 不同W含量的Mo-W-Si-N涂层材料 | 第47-49页 |
| 4.3 不同Si_3N_4含量的Mo-W-Si-N涂层材料 | 第49-51页 |
| 4.4 不同WSi_2含量的Mo-W-Si-N涂层材料的热膨胀系数及变化机理 | 第51-55页 |
| 4.4.1 不同WSi_2含量的Mo-W-Si-N涂层材料的热膨胀系数 | 第51-52页 |
| 4.4.2 不同WSi_2含量的涂层材料热膨胀系数的变化分析 | 第52-55页 |
| 4.5 不同Si_3N_4含量的涂层材料的热膨胀系数及变化分析 | 第55-56页 |
| 4.6 小结 | 第56-58页 |
| 第五章 钼基Mo-W-Si-N涂层材料的热震性能 | 第58-62页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 钼基Mo-W-Si-N涂层材料的制备 | 第58-61页 |
| 5.3 小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-63页 |
| 6.1 结论 | 第62页 |
| 6.2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 个人简历 | 第71页 |
