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托卡马克中偏滤器材料的溅射行为研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-16页
    1.1 课题研究的背景及意义第10-12页
    1.2 国内外研究现状第12-13页
    1.3 本文的主要内容第13-16页
第2章 材料辐照损伤第16-22页
    2.1 材料辐照效应的分类第16页
    2.2 晶体缺陷第16-17页
    2.3 辐照过程的基本理论第17-20页
    2.4 聚变装置材料的辐照损伤第20-21页
    2.5 本章小结第21-22页
第3章 带电离子轰击材料表面引起的溅射产额第22-32页
    3.1 理论模型第22-25页
    3.2 材料表面模型第25-27页
    3.3 数值计算及分析第27-30页
    3.4 本章小结第30-32页
第4章 聚变中子轰击材料表面引起的溅射产额第32-38页
    4.1 分层模型第32-36页
    4.2 计算结果第36-37页
    4.3 本章小结第37-38页
第5章 总结与展望第38-40页
    5.1 结论第38-39页
    5.2 展望第39-40页
参考文献第40-43页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第43-44页
致谢第44页

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